Republicação - classificação IPC
#15.11
Procedimento automático de reclassificação. As classificações IPC anteriores eram: C09D 5/02; C09D 7/12.
27/03/2018
RPI 2464
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Dado oficial do INPI
Composição de revestimento de baixo lustro, processos para melhorar a qualidade de impressão de um substrato e para produzir um substrato reestido de baixo lustro, e, substrato revestido de baixo lustro.
ArquivadaPatente de Invenção
Dados do pedido
Número
PI9705715Tipo
Patente de Invenção
Depósito
14/11/1997
Publicação
29/06/1999
Andamento no INPI
- Depósito14/11/97
- Publicação29/06/99
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 27/03/2018. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
rohm and haas company
US
Inventores
J. B. (pessoa física)
US
M. R. (pessoa física)
US
R. B. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
60/031004 · 15/11/1996
Resumo técnico
"COMPOSIÇÃO DE REVESTIMENTO DE BAIXO LUSTRO, PROCESSO PARA MELHORAR A QUALIDADE DA IMPRESSÃO DE UM SUBSTRATO E PARA PRODUZIR UM SUBSTRATO REVESTIDO DE BAIXO LUSTRO, E, SUBSTRATO REVESTIDO DE BAIXO LUSTRO " . A presente invenção supre uma composição de revestimento de baixo lustro, tendo um lustro de folha a 75% de 50% ou menos, que é útil para melhorar a qualidade de impressão de tintas aplicadas à composição de revestimento de baixo lustro. A composição de revestimento de baixo lustro é particularmente útil para aumentar a diferença de lustro, ou lustro delta, entre um substrato revestido com a composição de baixo lustro e a tinta aplicada ao substrato revestido de baixo lustro.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
15/03/2005
RPI 1784
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
14/09/2004
RPI 1758
Publicação do pedido de patente
#3.1
29/06/1999
RPI 1486
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