Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
08/06/2004
RPI 1744
Dados do pedido
Número
PI9705492Tipo
Depósito
Publicação
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 18/11/1997, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 08/06/2004. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
A. V. (pessoa física)
MG, BR
Inventores
A. V. (pessoa física)
BR
Classificação IPC
Resumo técnico
''PROCESSADOR RÁPIDO'', próprio para ser empregado como microprocessador auxiliar, bem como para uso em nave espacial, colocando-se um dentro da referida nave e outro fora; basicamente, esta tecnologia destina-se à transmissão de corrente de energia nos circuitos do computador, através de materiais ainda não utilizados para este fim, aumentando assustadoramente a velocidade de processamento dos computadores; basicamente, cria-se o microprocessador auxiliar com a seguinte fórmula matemática A sen ( t ± ) como pode ser visto na figura onde é apresentado o circuito. Montagem do circuito: . Após o processador do computador colocar a entrada de uma resistência de quartzo com amônia maser e silício em pó puro dentro do quartzo fundido; . Em seguida os três elementos, carbono e benzeno misturados com pó de silício puro, encapados com quartzo fundido e com silício de todos os lados formando um paralelepípedo; . Os dois restantes são capacitâncias com um farad cada uma, duas, uma de um lado e a outra do outro lado; . O paralelepípedo é furado em uma das faces para formar um corpo negro radiante de calor; . Logo após o processador do computador, colocar o circuito + de um lado e - do outro com os dispositivos para gerar A sen ( t ± ) e usar estes circuitos para fazer a nave de imã se deslocar em vôo da terra (ver figuras em anexo). Disto, resulta em spin giratório ( da fórmula A sen ( t ± ) que irá aumentar a velocidade do processador do computador; o raio laser atingindo os átomos de uma estrela, estes se transformam em íons e anti elétrons.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.1.1
08/06/2004
RPI 1744
#11.1
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