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Dado oficial do INPI

PROCESSO DE FORMAR RESISTORES DE PELÍCULA ESPESSA, OS RESISTORES, E, CIRCUITO HÍBRIDO DE PELÍCULA ESPESSA

ArquivadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI9704591

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

02/09/1997

Publicação

10/11/1998

Andamento no INPI

  1. Depósito02/09/97
  2. Publicação10/11/98
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 02/09/1997, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 01/06/2004. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

D. C. (pessoa física)

US

Inventores

F. L. (pessoa física)

US

J. I. (pessoa física)

US

L. A. (pessoa física)

US

M. E. (pessoa física)

US

M. G. (pessoa física)

US

R. H. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

08/707085 · 03/09/1996

Resumo técnico

"PROCESSO DE FORMAR RESISTORES DE PELÍCULA ESPESSA, OS RESISTORES, E, CIRCUITO HÍBRIDO DE PELÍCULA ESPESSA". Uma configuração de resistor de película espessa e um processo para fabricar os resistores de película espessa, pelos quais tais resistores podem ser processador para obter resistência elétricas pretendidas. A configuração e o processo desta invenção envolvem criar resistores de película espessa para um determinado circuito híbrido, em que os resistores podem ser formados da mesma composição de resistor e têm essencialmente o mesmo formato periférico e dimensões externas, embora possam diferir em resistência em uma relação de 20:1 ou ais. Os resistores são caracterizados por diferenças em suas resistências, sendo conseguidas através de modifcações apropriadas nas configurações de seus condutores. Em conseqüência, uma tamanho de resistor padronizado pode ser adotado para uma determinada rede de resistor, desse modo possibilitando ótimo acondicionamento do resistor para a rede, uma vez que não precisam ser acomodadas modificações subseqüentes nos comprimentos e laguras dos resistores para balanceamento do resistor.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

01/06/2004

RPI 1743

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

14/10/2003

RPI 1710

Publicação do pedido de patente

#3.1

10/11/1998

RPI 1453

Pedido de patente depositado

#2.1

10/03/1998

RPI 1420

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