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Dado oficial do INPI

CONCENTRADOR DE OXIGÊNIO SECUNDÁRIO DE ALTA PUREZA DE ESTÁGIO ÚNICO, E PROCESSO PARA PRODUZIR UMA CONCENTRAÇÃO DE OXIGÊNIO DE ALTA PUREZA

ArquivadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI9704030

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

18/07/1997

Publicação

09/02/1999

Andamento no INPI

  1. Depósito18/07/97
  2. Publicação09/02/99
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 25/01/2005. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Litton Systems Inc

US

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Inventores

R. C. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

08/684950 · 19/07/1996

Resumo técnico

Patente de Invenção "CONCENTRADOR DE OXIGÊNIO SECUNDÁRIO DE ALTA PUREZA DE ESTÁGIO ÚNICO, E, PROCESSO PARA PRODUZIR UMA CONCENTRAÇÃO DE OXIGÊNIO DE ALTA PUREZA" . São descritos um concentrador de oxigênio secundário de alta pureza de estágio único e processo de concentração de oxigênio. O concentrador tem pelo menos uma primeira e uma segunda válvula de entrada, um primeiro e um segundo leito de peneira molecular, e uma primeira e segunda válvula de saída. De acordo com uma primeira versão da presente invenção, o concentrador compreende, ainda mais, uma válvula de alívio. Durante um ciclo de carga do primeiro leito de peneira molecular a primeira válvula de entrada está aberta, a primeira válvula de saída está fechada, a segunda válvula de entrada está fechada, e a segunda válvula de saída está aberta tal que o oxigênio adsorvido do segundo leito de peneira molecular é desadsorvido ou retirado enquanto o primeiro leito de peneira molecular é carregado. Semelhantemente, durante um ciclo de carga do segundo leito de peneira molecular a primeira válvula de entrada está fechada, a primeira válvula de saída está aberta, a segunda válvula de entrada está aberta, e a segunda válvula de saída está fechada tal que o oxigênio adsorvido do primeiro leito de peneira molecular é desadsorvido ou retirado enquanto o segundo leito de peneira molecular é carregado. Após completar-se o ciclo de carga do primeiro leito de peneira molecular, a primeira válvula de saída abre e um surto de gás é exaurido pela válvula de alívio e após completar-se o ciclo de carga do segundo leito de peneira molecular a segunda válvula de saída abre e um surto de gás é exaurido pela válvula de alívio. De acordo com um segunda versão da presente invenção, o concentrador ainda mais compreende uma bomba a qual durante o ciclo de carga do primeiro leito de peneira molecular retira o oxigênio adsorvido do primeiro leito de peneira molecular e durante o ciclo de carga do segundo leito de peneira molecular retira o oxigênio adsorvido do segundo leito de peneira molecular.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

25/01/2005

RPI 1777

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

24/08/2004

RPI 1755

Pedido suspenso — exigência de documentos

#6.6

O requerente deverá apresentar, de acordo com o art. 34 "I" da LPI, as objeções, buscas de anterioridade e resultados de exame para concessão de pedido correspondente em outros países.

11/06/2002

RPI 1640

Publicação do pedido de patente

#3.1

09/02/1999

RPI 1466

Pedido de patente depositado

#2.1

18/11/1997

RPI 1407

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