Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
25/01/2005
RPI 1777
Dados do pedido
Número
PI9704030Tipo
Depósito
Publicação
Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 25/01/2005. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Litton Systems Inc
US
Inventores
R. C. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
08/684950 · 19/07/1996
Resumo técnico
Patente de Invenção "CONCENTRADOR DE OXIGÊNIO SECUNDÁRIO DE ALTA PUREZA DE ESTÁGIO ÚNICO, E, PROCESSO PARA PRODUZIR UMA CONCENTRAÇÃO DE OXIGÊNIO DE ALTA PUREZA" . São descritos um concentrador de oxigênio secundário de alta pureza de estágio único e processo de concentração de oxigênio. O concentrador tem pelo menos uma primeira e uma segunda válvula de entrada, um primeiro e um segundo leito de peneira molecular, e uma primeira e segunda válvula de saída. De acordo com uma primeira versão da presente invenção, o concentrador compreende, ainda mais, uma válvula de alívio. Durante um ciclo de carga do primeiro leito de peneira molecular a primeira válvula de entrada está aberta, a primeira válvula de saída está fechada, a segunda válvula de entrada está fechada, e a segunda válvula de saída está aberta tal que o oxigênio adsorvido do segundo leito de peneira molecular é desadsorvido ou retirado enquanto o primeiro leito de peneira molecular é carregado. Semelhantemente, durante um ciclo de carga do segundo leito de peneira molecular a primeira válvula de entrada está fechada, a primeira válvula de saída está aberta, a segunda válvula de entrada está aberta, e a segunda válvula de saída está fechada tal que o oxigênio adsorvido do primeiro leito de peneira molecular é desadsorvido ou retirado enquanto o segundo leito de peneira molecular é carregado. Após completar-se o ciclo de carga do primeiro leito de peneira molecular, a primeira válvula de saída abre e um surto de gás é exaurido pela válvula de alívio e após completar-se o ciclo de carga do segundo leito de peneira molecular a segunda válvula de saída abre e um surto de gás é exaurido pela válvula de alívio. De acordo com um segunda versão da presente invenção, o concentrador ainda mais compreende uma bomba a qual durante o ciclo de carga do primeiro leito de peneira molecular retira o oxigênio adsorvido do primeiro leito de peneira molecular e durante o ciclo de carga do segundo leito de peneira molecular retira o oxigênio adsorvido do segundo leito de peneira molecular.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.2
25/01/2005
RPI 1777
#6.1
24/08/2004
RPI 1755
#6.6
O requerente deverá apresentar, de acordo com o art. 34 "I" da LPI, as objeções, buscas de anterioridade e resultados de exame para concessão de pedido correspondente em outros países.
11/06/2002
RPI 1640
#3.1
09/02/1999
RPI 1466
#2.1
18/11/1997
RPI 1407
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