ÓXIDOS DE ALQUIL FENIL BIS ACIL FOSFINA E MISTURAS FOTOINICIADORAS, COMPOSIÇÃO FOTOPOLIMERIZÁVEL, PROCESSO PARA FOTOPOLIMERIZAÇÃO DOS REFERIDOS ÓXIDOS, USOS DOS REFERIDOS ÓXIDOS E DA REFERIDA COMPOSIÇÃO, SUBSTRATO REVESTIDO, BEM COMO PROCESSO PARA PRODUÇÃO FOTOGRÁFICA DE IMAGENS EM RELEVO.

Classificação IPC

Prioridades unionistas

Resumo técnico

Patente de Invenção: "ÓXIDOS DE ALQUIL FENIL BIS ACIL FOSFINA E MISTURAS FOTOINICIADORAS" . Compostos de fórmula I (I) na qual R~ 1~ é alquila C~1-4~ , R~ 2~ é hidrogênio, alquila C~ 1-4~ ou alcóxi C~ 1-4 e R~ 3~ , R~ 4~ , R~ 5~ , R~ 6~ e R~ 7~ independentemente um do outro são hidrogênio, halogênio, alquila C~ 1-20, cilco petila, ciclohexila, alquenila, C~ 2-12~ , alquila C~ 2-18~ que está interrompido por um ou mais átomos de oxigênio, ou são alquila C~ 1-4~ substituído ou está mono- ou di- substituído com alqula C~ 104~ e/ou alcóxi C~1-4, com as condições de que pelo menos um dos radicais R~3, R~4, R~5, R~6 e R~7 é outro que não hidrogênio e que, se R~1 e R~2 são metila, R~3 e R~6 não são metila, e misturas de tais compostos com hidróxi cetonas, benzofenas e -amino cetonas, são apropriados como fotoiniciadores.