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Dado oficial do INPI

COMPOSIÇÃO DE LÁTEX CURÁVEL POR RADIAÇÃO E PROCESSOS DE PROPORCIONAR UM MECANISMO DE CURA SECUNDÁRIO PARA UMA COMPOSIÇÃO DE LÁTEX CURÁVEL POR RADIAÇÃO E UM REVESTIMENTO PROTETOR RETICULADO EM UM SUBSTRATO

Arquivada/ExtintaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI9701067

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

25/02/1997

Publicação

25/08/1998

Andamento no INPI

  1. Depósito25/02/97
  2. Publicação25/08/98
  3. Exame
  4. Deferimento19/10/04
  5. Concessão15/02/05
  6. Expirado11/04/17

Carta-patente expirada em 11/04/2017: o prazo de proteção chegou ao fim. A tecnologia está em domínio público e pode ser explorada livremente no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 11/04/2017. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Rohm and Haas Company

US

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Inventores

A. S. (pessoa física)

US

K. W. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

60/012281 · 26/02/1996

US

60/014080 · 26/03/1996

Resumo técnico

Patente de Invenção "COMPOSIÇÃO DE LÁTEX CURÁVEL POR RADIAÇÃO E PROCESSOS DE PROPORCIONAR UM MECANISMO DE CURA SECUNDÁRIO PARA UMA COMPOSIÇÃO DE LÁTEX CURÁVEL POR RADIAÇÃO E UM REVESTIMENTO PROTETOR RETICULADO EM UM SUBSTRATO". São descritas composições de látex curáveis por radiação tendo um mecanismo de cura secundário. Nessas composições, uma dispersão transportada a água anionicamente estabilizada de uma ou mais resinas curáveis por radiação, é combinada com um composto de baixo peso molecular tendo pelo menos dois grupos funcionais reativos, onde um grupo funcional reativo compreende um epóxi e outro grupo funcional reativo compreende ou um epóxi ou uma funcionalidade capaz de autocondensação após a formação de filme. Também descrito está um processo de proporcionar um revestimento protetor reticulado em um substrato, onde o revestimento da composição da presente invenção é aplicada ao substrato; o substrato revestido é exposto à radiação actínica para efetuar a cura; e as porções não expostas ou sub expostas do substrato revestido são permitidas curar à temperatura ou superior.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Carta-patente expirada

#21.1

Patente extinta em 25/02/2017

11/04/2017

RPI 2414

Concessão da patente

#16.1

15/02/2005

RPI 1780

Deferimento

#9.1

OBS: Deverão ser apostilados o s seguintes erros datilográfisos:-Página 5, linha 29 do relatório descritivo, corrigir "butanedióis" para "butanodióis".-Página 12, linha 4 do relatório descritivo, corrigir "diletilamina" para "dietilamina".-Página 16, linha 8 do relatório descritivo, corrigir "dispóxi" para "diepóxi".

19/10/2004

RPI 1763

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

18/05/2004

RPI 1741

Pedido suspenso — exigência de documentos

#6.6

O requerente deverá apresentar, de acordo com o art. 34 "I" da LPI, as objeções, buscas de anterioridade e resultados de exame para concessão de pedido correspondente em outros países.

07/05/2002

RPI 1635

Publicação do pedido de patente

#3.1

25/08/1998

RPI 1444

Pedido de patente depositado

#2.1

10/06/1997

RPI 1384

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