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Dado oficial do INPI

MÉTODO E APARELHO PARA TRATAMENTO TÉRMICO QUE INCLUI CONTROLE DE REGIÃO DE FORNO DE H2/H2O

IndeferidaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI9700915

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

07/02/1997

Publicação

01/09/1998

Andamento no INPI

Em recurso
  1. Depósito07/02/97
  2. Publicação01/09/98
  3. Exame
  4. Indeferido24/06/03
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido indeferido pelo INPI em 24/06/2003. A invenção não chegou a ser patenteada.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 24/06/2003. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Praxair Technology, Inc.

US

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Inventores

J. S. (pessoa física)

US

R. V. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

599204 · 09/02/1996

Resumo técnico

Patente de Invenção: "MÉTODO E APARELHO PARA TRATAMENTO TÉRMICO QUE INCLUI CONTROLE DE REGIÃO DE FORNO DE H~ 2~/H~ 2~O" . Um sistema de controle de ciclo fechado controla a introdução ou de água ou de hidrogênio numa região de forno onde uma peça é submetida a uma temperatura elevada para a realização de um processo de tratamento térmico. O processo de tratamento térmico faz com que a peça coopere em reações de redução e/ou oxidação que permanecem em equilíbrio na temperatura elevada desde que o ponto de regulagem da razão de hidrogênio/água seja mantido. O sistema inclui uma sonda de oxigênio em comunicação com a região de forno para fornecer (i) uma saída de oxigênio indicativa da concentração de oxigênio detectada dentro da região de forno, e (ii) uma saída de temperatura indicativa da temperatura no seu interior. Um controlador determina, a partir da saída de oxigênio e da saída de temperatura, uma razão medida de hidrogênio para água dentro da região de forno, e compara a razão medida com o ponto de regulagem da razão de hidrogênio/água, e fornece uma saída de sinal de correção de acordo com uma diferença determinada entre a razão medida e o ponto de regulagem da razão. Um controlador de fluxo é sensível à saída de sinal de correção para fornecer um fluxo de pelo menos um dentre hidrogênio e água para a região de forno para mover a razão de hidrogênio/água em direção ao citado ponto de regulagem de razão.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Indeferimento

#9.2

Indeferido com base no Art.8º combinado com o Art.13 da LPI 9.279/96.

24/06/2003

RPI 1694

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

24/09/2002

RPI 1655

Publicação do pedido de patente

#3.1

01/09/1998

RPI 1445

Pedido de patente depositado

#2.1

03/06/1997

RPI 1383

Monitoramento de patentes

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