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Dado oficial do INPI

APARELHO TENDO UM SUBSISTEMA LIMPADOR PARA REMOVER PARTÍCULAS DE UMA SUPERFÍCIE DE FORMAÇÃO DE IMAGEM E PROCESSO PARA REMOVER PARTÍCULAS EM UMA MÁQUINA DE IMPRESSÃO DE MULTIPASSO DE UMA SUPERFÍCIE DE FORMAÇÃO DE IMAGEM

ArquivadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI9700032

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

09/01/1997

Publicação

10/11/1998

Andamento no INPI

  1. Depósito09/01/97
  2. Publicação10/11/98
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 01/04/2008. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

X. C. (pessoa física)

US

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Inventores

B. T. (pessoa física)

US

D. G. (pessoa física)

US

N. L. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

08585029 · 11/01/1996

Resumo técnico

Patente de Invenção "APARELHO TENDO UM SUBSISTEMA LIMPADOR PARA REMOVER PARTÍCULAS DE UMA SUPERFÍCIE DE FORMAÇÃO DE IMAGEM E PROCESSO PRA REMOVER PARTÍCULAS EM UMA MÁQUINA DE IMPRESSÃO DE MULTIPASSO DE UMA SUPERFÍCIE DE FORMAÇÃO DE IMAGEM". Um aparelho e um método para retrair o limpador a partir de uma superfície de formação de imagem e prevenir o vazamento de tonalizador. Um aparelho e um método que descreve um limpador do tipo DESB (isto é, escova eletrostática dual) em uma operação de multipasso que não só tem de limpar o tonalizador do fotorreceptor, mas tem de retrair a partir do fotorreceptor. As duas escovas pivotam em torno de dois pontos de pivô definidos no invólucro do limpador durante o ciclo de retração para desengatar do fotorreceptor durante as operações de multipasso. A primeira escova é pivotada para cima e a segunda escova é pivotada para baixo. Uma descrição adicional é o aparelho e o método de usar vedações plásticas finas corrediças e flexíveis para uma ESB dual que tem invólucros móveis (por exemplo, ressaltando para dentro e para fora). A vedação previne o vazamento das partículas de tonalizador do invólucro do limpador.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

01/04/2008

RPI 1943

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

18/09/2007

RPI 1915

Pedido suspenso — exigência de documentos

#6.6

O requerente deverá apresentar, de acordo com o art. 34 "I" da LPI, as objeções, buscas de anterioridade e resultados de exame para concessão de pedido correspondente em outros países.

30/04/2002

RPI 1634

Publicação do pedido de patente

#3.1

10/11/1998

RPI 1453

Pedido de patente depositado

#2.1

20/05/1997

RPI 1381

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