Extinção para fins de restauração (art. 87)
#21.6
Referente ao despacho 24.3 publicado na RPI 2016 de 25/08/2009 e à 13ª, 14ª e 15ª anuidades.
20/12/2011
RPI 2137
Dados do pedido
Número
PI9700016Tipo
Depósito
Publicação
Patente concedida em 15/02/2005 e depois extinta em 20/12/2011. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 20/12/2011. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.
JP
Mitsui Kinzoku Kogyo Kabushiki Kaisha (Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd.)
JP
Inventores
H. M. (pessoa física)
JP
H. S. (pessoa física)
JP
K. E. (pessoa física)
JP
M. E. (pessoa física)
JP
T. I. (pessoa física)
JP
Y. S. (pessoa física)
JP
Prioridades unionistas
JP
8-16990 · 08/01/1996
Resumo técnico
Patente de Invenção: "DIÓXIDO DE MANGANÊS ELETROLÍTICO, PROCESSO PARA SUA PREPARAÇÃO E CÉLULA SECA DE MANGANÊS" . Esta invenção refere-se a um dióxido de manganês eletrolítico que possui uma composição de MnOx, onde x é 1,96, um teor de umidade adesiva de não menos que 15% em peso conforme medido de acordo com o procedimento epsecificado em JIS e um teor de água de ligação, eliminável na faixa de temperatura de 120 a 400° C, de não menos que 3,0% em peso conforme medido por gravidemetria, a um processo para sua preparação e a uma célula seca de manganês que compreende uma mistura de catodo constituída de uma mistura do dióxido de manganês eletrolítico com um negro de acetileno condutor, especialmente um negro de acetileno condutor que possui uma área superficial específica BET de 70 a 250 m^2^g, e um eletrólito composto principalmente de cloreto de zinco e/ou cloreto de amônio.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#21.6
Referente ao despacho 24.3 publicado na RPI 2016 de 25/08/2009 e à 13ª, 14ª e 15ª anuidades.
20/12/2011
RPI 2137
Referente a 11ªe12ª anuidade(s).
25/08/2009
RPI 2016
#16.1
15/02/2005
RPI 1780
Ref. RPI 1764 de 26/10/2004 item apostilamento. Deverá ser apostilado na Carta Patente o seguinte erro datilográfico: Na reivindicação 1 linha 12 e na reivindicação 2 linha 8 página 2, onde se lê: "eletrodisposição" leia-se "eletrodeposição".
03/11/2004
RPI 1765
#9.1
26/10/2004
RPI 1764
#7.1
04/05/2004
RPI 1739
#6.6
O requerente deverá apresentar, de acordo com o art. 34 "I" da LPI, as objeções, buscas de anterioridade e resultados de exame para concessão de pedido correspondente em outros países.
30/04/2002
RPI 1634
#3.1
10/11/1998
RPI 1453
#2.1
20/05/1997
RPI 1381
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