Indeferimento
#9.2
Pedido indeferido de acordo com o art. 8º da LPI, em vista do(s) art.(s). 13 da LPI.
13/04/2004
RPI 1736
Dados do pedido
Número
PI9608222Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US1996003417 Pedido indeferido pelo INPI em 13/04/2004. A invenção não chegou a ser patenteada.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 13/04/2004. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Minnesota Mining And Manufacturing Company
US
Inventores
J. S. (pessoa física)
US
L. H. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
08/423204 · 17/04/1995
Resumo técnico
"PROCESSOS PARA MEDIR A INTENSIDADE DA ENERGIA RADIANTE FLOURESCIDA POR UM AGENTE FLUORESCENTE, A QUANTIDADE DE MONÔMERO OU OLIGÔMERO CURÁVEL POR RADIAÇÃO EM UM REVESTIMENTO CURADO POR RADIAÇÃO E A CONCENTRAÇÃO DE OXIGÊNIO EM UMA CÂMARA DE CURA". Processo para medir a intensidade da energia radiante flourescida por um agente flourescente em um revestimento curado por radiação. O processo compreende as etapas de: a) aplicação de um revestimento (4) que compreende: i) um monômero ou oligômero curável por radiação, e ii) um agente flourescente que tem uma energia de excitação a um comprimento de onda 2, sendo que o agente flourescente fluoresce a energia radiante de um comprimento de onda 3; b) cura do revestimento através de exposição à energia radiante (14), alterando desse modo a intensidade da energia radiante que deve ser flourescida pelo agente flourescente se for exposta ao comprimento de onda 2; c) iluminação de revestimento curado por radiação com a energia de excitação (16) de um comprimento de onda 2, sendo que pelo menos 50% da energia de excitaçõ são absorvidos pelos 75 m superiores do revestimento curado por radiação; e d) medição da intensidade (18) da energia radiante flourescida flourescida pleo agente flourescente no comprimento de onda 3. O processo acima pode ser usado para medir a quantidade de monômero ou oligômero curável por radiação residual presente em um revestimento curado por radiação. Esse processo para medir o monômero residual é especialmente útil onde a intensidade da energia radiante flourescida pelo agente flourescente no comprimento de onda 3 muda com a concentração de monômero ou oligômero curável por radiação não reagido no revestimento curado por radiação.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#9.2
Pedido indeferido de acordo com o art. 8º da LPI, em vista do(s) art.(s). 13 da LPI.
13/04/2004
RPI 1736
#15.11
Alterada a classificação para C09K 11/06.
02/09/2003
RPI 1704
#7.1
02/09/2003
RPI 1704
#1.3
29/12/1998
RPI 1460
Do mesmo titular
Da mesma categoria
Monitoramento de patentes
Receba alertas de despachos, decisões e vencimentos do INPI para o seu portfólio.