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Dado oficial do INPI

COMPOSIÇÕES DE LIBERAÇÃO DE SILICONE CURÁVEL POR RADIAÇÃO E POR FEIXE DE ELÉTRON, MÉTODO PARA PRODUZIR UM SUBSTRATO REVESTIDO, ARTIGO REVESTIDO E ARTIGO DE CAMADAS MÚLTIPLAS

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US1995002414

Dados do pedido

Número

PI9507124

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

27/02/1995

Publicação

30/09/1997

PCT

US1995002414

Andamento no INPI

  1. Depósito27/02/95
  2. Publicação30/09/97
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 24/12/2002. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

A. C. (pessoa física)

US

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Inventores

T. L. (pessoa física)

US

T. N. (pessoa física)

US

W. K. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Prioridades unionistas

US

08/204,772 · 02/03/1994

Resumo técnico

Patente de Invenção de "COMPOSIÇÕES DE LIBERAÇÃO DE SILICONE CURÁVEL POR RADIAÇÃO E POR FEIXE DE ELÉTRON, MÉTODO PARA PRODUZIR UM SUBSTRATO REVESTIDO, ARTIGO REVESTIDO E ARTIGO DE CAMADAS MÚLTIPLAS", compreendendo (A) uma mistura de organopolisoloxano definido pela fórmula (I) RSi(CH~ 3~)~ 2~-0-(Si(CH~ 3~)~ 2Õn(Si(CH~ 3~)(R)O)mSi(CH~ 3~)~ 2^ R^ onde a mistura compreende (A-1) de aproximadamente 25% a 955% em peso de pelo menos um organopolisiloxano definido pela fórmula (I) onde R é R^ 1^-O(O)C-C(R^ 2^)-CH~ 2~. R^ 1^ é um grupo hidrocarbileno, R^ 2^ é hidrogênio ou um grupo metila ou etila, m é um número de aproximadamente 1 a aproximadamente 15, e n é um número de aproximadamente 50 a aproximadamente 300, e (A-2) de aproximadamente 5% a 75% em peso de pelo menos um outro organopolisiloxano definido pela fórmula (I) onde R à qual R^ 1^-OCH~ 2~CH)OH)-CH~ 2Õ(O)C-C(R^ 2@)-CH~ 2~, R^ 1^ é um grupo hodricarbileno, R^ 2^ é hidrigênio ou um grupo metila e etila, m é um número e aproximadamente 1 a aproximadamente 25, e n é um número de aproximadamente 300, e (B) de 0% a aproximadamente 5% em peso de um fotoiniciador. Um método de produção de um susbtrato revestido de liberação de silicone, os artigos revestidos de liberação assim produzidos, e artigos ou construção de camadas múltiplas incorporando uma camada de liberação de silicone são também descritos, Quando as composições de silicone são curadas tal como por radiação de feixe de elétron, as composições curadas exibem uma força de liberação controlada e alta desejável em velocidade elevadas tal como as velocidade utilizadas em processamento de etiquetas.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

24/12/2002

RPI 1668

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

25/06/2002

RPI 1642

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

30/09/1997

RPI 1400

Monitoramento de patentes

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