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Dado oficial do INPI

PROCESSO DE TRATAMENTO SUPERFICIAL DE UM SUBSTRATO

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · US1995000782

Dados do pedido

Número

PI9506560

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

17/01/1995

Publicação

23/03/1999

PCT

US1995000782

Andamento no INPI

  1. Depósito17/01/95
  2. Publicação23/03/99
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 17/08/2004. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

QQC, INC.

US

Inventores

M. T. (pessoa física)

US

P. M. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

182978 · 18/01/1994

US

184041 · 21/01/1994

US

241930 · 12/05/1994

Resumo técnico

Patente de Invenção: "PROCESSO DE TRATAMENTO SUPERFICIAL DE UM SUBSTRATO" . A energia de laser é direcionada a um substrato para mobilizar, vaporizar e reagir um elemento (por exemplo, carbono) constituinte (primário) contido no substrato, a fim de modificar a composição (por exemplo, estrutura cristalina ) do elemento constituinte, e difundir o constituinte modificado de volta ao substrato, como um adjunto para fabricação de um revestimento (por exemplo, diamante ou carbono na forma de diamente) sobre a superfície do substrato. Isso cria uma zona de conversão imediatamente abaixo do substrato, que transita metalurgicamente da composição do substrato subjacente a uma composição do revestimento que está sendo fabricado sobre a superfície do substrato, o que resulta em ligação por difusão do revestimento ao substrato. Elementos adicionais (secundários) similares (por exemplo, carbono) ou não similares podem ser introduzidos em uma zona de reação sobre a acima da superfície do substrato para aumentar a fabricação da composição do revestimento e determinar a mesma. A energia de laser é provida por uma combinação de um laser de excímero, um laser de Nd: YAG e um laser de CO~ 2~, cujos os feixes de descarga são preferivelmente direcionados através de um bocal fornece o elemento secundário à zona de reação. A zona de reação é blindada por um gás (por exemplo, N~ 2~) de blindagem inerte (não reativo) liberado através do boal. Um plasma plano é criado pelos lasers, elemento constituinte e elemento secundário sobre a superfície do substrato e o plasma plano opcionalmente se estende em torno das bordas do substrato para fabricar um revestimento sobre o mesmo. Pré-determinado e fabricação de revestimento podem ser executados em conjunto um com o outro (in situ). Alternativamente, um substrato pode ser pré-tratado para caraterizar sua superfície para revestimento subseqënte. Em qualquer caso, certas mudanças metalúrgicas vantajosas são introduzidas no substrato e fabricação de revestimento) são adequadamente excutados no ambiente, sem pré-aquecimento do substrato e sem vácuo. Substratos de diversas geometrias, tamanhos e formatos, tais como insertos de ferramente de corte plana bem como ferramentas de corte redondadas, são prontamente em qualquer ângulo adequado (incluindo coaxial) relativo ao substrato e/ou ao plasma.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

referente á 8ª e 9ª anuidades

17/08/2004

RPI 1754

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

23/03/1999

RPI 1472

Monitoramento de patentes

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