Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
29/03/2005
RPI 1786
Dados do pedido
Número
PI9506254Tipo
Depósito
Publicação
PCT
JP1995000854 Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 29/03/2005. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
S. C. (pessoa física)
JP
Inventores
H. T. (pessoa física)
JP
H. O. (pessoa física)
JP
K. T. (pessoa física)
JP
M. N. (pessoa física)
JP
M. I. (pessoa física)
JP
S. I. (pessoa física)
JP
S. T. (pessoa física)
JP
Classificação IPC
Prioridades unionistas
JP
P06-127634 · 09/06/1994
Resumo técnico
Patente de Invenção "PROCESSO DE PRODUZIR PELÍCULA DE UM SEMICONDUTOR DE UM COMPOSTO DO GRUPO II-VI DOPADO COM NITROGÊNIO." Uma película de um semicondutor de um composto o grupo II-VI de pelo menos um de elementos pertencentes ao grupo II da tabela periódica e pelo menos um de elementos pertencentes ao grupo IV da tabela periódica é depositada sobre um substrato. Quando o filme é depositado sobre o substrato, uma plasma de nitrogênio em um estado excitado é aplicado ao substrato enquanto removendo as partículas carregadas do dito plasma por um dipositivo removedor de partículas carregadas. A película depositada de um semicondutor de um composto do grupo II-VI dopado com nitrogênio tem uma porcentagem aumentada de átomos de nitrogênio ativados e cristalinidade aperfeiçoada.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.2
29/03/2005
RPI 1786
#7.1
13/07/2004
RPI 1749
#1.3
16/04/1996
RPI 1324
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