Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
14/03/2000
RPI 1523
Dados do pedido
Número
PI9500315Tipo
Depósito
Publicação
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 25/01/1995, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 14/03/2000. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
CIBA-GEIGY
SP, BR
Inventores
H. S. (pessoa física)
US
J. A. (pessoa física)
CH
J. P. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Resumo técnico
Patente de Invenção: "PROCESSO PARA A PREPARAÇÃO DE UM COMPOSTO; PROCESSO PARA A PREPARAÇÃO DE UM SAL DE 1-AMINO-1-CIANAMINO-2,2-DICIANOETILENO DE METAL ALCALINO; COMPOSTO E USO DE UM COMPOSTO". 4,6-diamino-5-cianopirimidinas substituídas na posição 2 da fórmula onde R~ 1~ é hidrogênio, alquila de C~ 1~-C~ 6~, alquenila de C~ 2~-C~ 6~ ou alquinila de C~ 2~-C~ 6~ e R~ 2~ é hidrogênio, alquila de C~ 1~-C~ 10~ ou cicloalquila de C~ 3~-C~ 6~ ou R~ 1~ e R~ 2~ juntos são um radical, selecionado do grupo de radicais, consistindo em -(CH~ 2~)~ 3~-, -(CH~ 2~)~ 4~- e -(CH~ 2~)~ 5~-, são preparadas por um processo que compreende reagir um cianimidocarbonato de dialquila da fórmula onde R~ 3~ é alquila de C~ 1~-C~ 4~, com um sal de metal alcalino de malononitrila ou com malononitrila e uma base de metal alcalino, em uma temperatura de -10 a +40°C, para dar um sal de 1-alcóxi-1-cianamino-2,2-dicianoetileno de metal alcalino da fórmula onde R~ 3~ é alquila de C~ 1~-C~ 4~ e M^ +^ é um cátion de metal alcalino, reagir este composto com um excesso de amônia em uma temperatura de 60 a 110°C para dar um sal de 1-amino-1-cianamino-2,2-dicianoetileno de metal alcalino da fórmula onde M^ +^ é cátion de metal alcalino, reagir este sal com excesso de cloreto de hidrogênio em um álcool secundário, água ou uma mistura dos mesmos como solvente para dar 2-cloro-4,6-diamino-5-cianopirimidina, e então reagir este composto com uma amina da fórmula R~ 1~R~ 2~NH para dar o produto final.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.1
14/03/2000
RPI 1523
#3.1
14/01/1997
RPI 1363
#2.1
14/03/1995
RPI 1267
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