PROCESSO DE ENXERTO DE RADICAL LIVRE DE MONÔMEROS EM UMA RESINA DE POLIPROPILENO E COMPOSIÇÃO DE POLIPROPILENO ENXERTADA

Classificação IPC

Resumo técnico

Patente de Invenção "PROCESSO DE ENXERTO DE RADICAL LIVRE DE MONÔMEROS EM UMA RESINA DE POLIPROPILENO E COMPOSIÇÃO DE POLIPROPILENO ENXERTADA". Um processo para enxertar radical livre de monômeros em uma resina de polipropileno, compreendendo as etapas de : (i) misturar a resina de polipropileno com um composto de alilepóxi, um composto estirênico e um peróxido como um iniciador, (ii) aquecer referida mistura a uma temperatura que é mais alta que o ponto de fusão da resina de polipropileno e a temperatura de decomposição do referido peróxido, em condições de mistura contínua até que um desejado grau de enxerto do composto de alilepóxi e do composto estirênico na resina de polipropileno tenha sido alcançado, e (iii) resfriar e fragmentar a composição obtida. Uma composição de polipropileno enxertada sendo obtida por referido processo compreende uma quantidade de metracrilato de glicidil de 0 a 10 % em peso e uma quantidade de estireno de a a 10 % em peso, calculado sobre a resina de polipropileno. A composição pode ser usada como um compatibilizador na manufaturação de misturas de polímeros, como um promotor de adesão de polímero, e em artigos que requerem uma capacidade de impressão melhorada.