Extinção para fins de restauração (art. 87)
#21.6
Referente ao não cumprimento do despacho 24.3 na RPI 2061 de 06/07/2010 e comprovar recolhimento da 17ª, 18ª e 19ª anuidades.
27/08/2013
RPI 2225
Dados do pedido
Número
PI9407591Tipo
Depósito
Publicação
PCT
EP1994003088 Patente concedida em 28/05/2002 e depois extinta em 27/08/2013. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 27/08/2013. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Basf Lacke + Farben Aktiengesellschaft
DE
Inventores
G. O. (pessoa física)
DE
H. R. (pessoa física)
DE
W. J. (pessoa física)
DE
Classificação IPC
Prioridades unionistas
DE
P 43 32 014.7 · 21/09/1993
Resumo técnico
Patente de Invenção:"COMPOSIÇÕES PARA ELETRORREVESTIMENTO E UM PROCESSO PARA REVESTIMENTO DE SUBSTRATOS ELETRICAMENTE CONDUTORES". A invenção refere-se a composições aquosas para eletrorrevestimento [sic] contendo resinas sintéticas catodicamente depositáveis, cujas composições para eletrorrevestimento são caracterizadas pelo fato de que elas contêm micropartículas de polímero que têm um tamanho de partícula de 0,01 até 10 µm e podem ser preparadas por reação (a) de um poliisocianato ou de uma mistura de poliisocianatos com (b) um composto orgânico contento não apenas pelo menos uma dupla ligação etilenicamente insaturada mas também pelo menos um átomo de hidrogênio ativo por molécula ou uma mistura de tais compostos orgânicos e (c) um composto orgânico contendo não apenas pelo menos um átomo de hidrogênio ativo mas também pelo menos um grupo amino um grupo aldimina por molécula ou uma mistura de tais compostos orgânicos e, se desejado, (d) um composto orgânico sem ser (b) e (c) contendo pelo menos um átomo de hidrogênio ativo por molécula ou uma mistura de tais compostos orgânicos em uma tal proporção de massa que 3 a 80 por cento dos grupos NCO de componente (a) são reagidos com o componente (b), 3 a 80 por cento dos grupos NCO do componente (a) são reagidos com o componente (c) e 0 a 94 por cento dos grupos NCO de componente (a) são reagidos com componente (d) e o produto da reação assim obtido é disperso em água e sujeito à polimerização de radical livre, com pelo menos 5 por cento dos grupos amino terciários e/ou primários presentes no produto da reação sendo neutralizados com um ácido de Bronsted ante, durante ou depois da dispersão.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#21.6
Referente ao não cumprimento do despacho 24.3 na RPI 2061 de 06/07/2010 e comprovar recolhimento da 17ª, 18ª e 19ª anuidades.
27/08/2013
RPI 2225
referente á 16ª anui dade.
06/07/2010
RPI 2061
#16.1
28/05/2002
RPI 1638
#9.1
26/12/2001
RPI 1616
#6.1
17/07/2001
RPI 1593
#6.1
06/02/2001
RPI 1570
#1.3
07/01/1997
RPI 1362
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