Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
14/03/2000
RPI 1523
Dados do pedido
Número
PI9407283Tipo
Depósito
Publicação
PCT
KR1994000006 Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 21/01/1994, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 14/03/2000. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Dong Wha Pharmaceutical Industrial Co., Ltd
KR
Inventores
C. L. (pessoa física)
KR
D. C. (pessoa física)
KR
N. K. (pessoa física)
KR
S. Y. (pessoa física)
KR
Y. C. (pessoa física)
KR
Y. O. (pessoa física)
KR
Classificação IPC
Prioridades unionistas
KR
1993/15724 · 13/08/1993
Resumo técnico
Patente de Invenção de "DERIVADOS DO ÁCIDO CARBOXÍLICO QUINOLÔNICO E PROCESSO DE PREPARAÇÃO". A presente invenção se refere a novos derivados do ácido carboxílico quinolônico com a fórmula (I), seus sais farmaceuticamente aceitáveis e seus hidratos. Na referida fórmula, X é um átomo de hidrocarbono, fluorcarbono ou nitrogênio, Y é um hidrogênio ou grupo metílico, R^ 1^ é um hidrogênio ou grupo alquílico, contendo de 1 a 5 átomos de carbono, R^ 2^ é (a) (em que A e B são átomos de nitrogênio ou de fluorocarbono, uma vez que, se A=CF e se A=N, B=CF) e R^ 3^ é (b) (em que R^ 4^ é um grupo de aminas que origina um racemato ou (S)-enantiômero ou (c) (em que R^ 5^, R^ 6^ R^ 7^ são respectivamente hidrogênio ou grupo alquílico contendo de 1 a 3 átomos de carbono). O derivado do ácido carboxílico quinolônico da fórmula (I) é preparado pela condensação do composto da fórmula (II) e do composto da fórmula HR^ 3^ em um solvente na presença de um aceitante ácido ou de um excesso do composto da fórmula HR^ 3^ que é um reagente; e o solvente é escolhido de um grupo consistente de piridina, acetonitrila e N,N-dimetilformamida. Na fórmula (II) e HR^ 3^, X, Y, Z, R^ 1^, R^ 2^ e R^ 3^ são tais como descritos. Os compostos de acordo com a presente invenção são usados como agentes antibacterianos.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.1
14/03/2000
RPI 1523
#1.3
01/10/1996
RPI 1348
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