Dado oficial do INPI

MÉTODO E APARELHO PARA CONTROLE DE PROCESSO

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · GB1994000720

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Dados do pedido

Número

PI9406451

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

05/04/1994

Publicação

02/01/1996

PCT

GB1994000720

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Andamento no INPI

Depósito05/04/94
Publicação02/01/96
Arquivado
Deferimento
Concessão
Em vigor

Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 17/09/2002. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Nimbus Communications International Limited

Nimbus Comunnications Interantional Limited

Inventores

G. R. (pessoa física)

J. H. (pessoa física)

Dados técnicos

Classificação IPC

G01N 21/89 G03F 7/30 G11B 7/26

Prioridades unionistas

93 07239.5 · 07/04/1993

Resumo técnico

A fim de investigar o desenvolvimento de uma camada fotorresistora (2) sobre um disco ótico mestre (1) por fluido de desenvolvimento (14), um corpo transparente (4, 35, 50) é posto em contato com o fluido de desenvolvimento (14). Um feixe de luz (6) é, então, incidente sobre o disco ótico mestre (1) de uma fonte (5) e o feixe difratado (8) passa através do fluido de desenvolvimento (14) e do corpo transparente (4, 35, 50) para um detetor (9). Dessa maneira, o curso ótico do feixe difratado (8) é estável. De preferência, o feixe difratado (8) é gerado do feixe de luz incidente (6) por reflexão e, de preferência, e um feixe difratado de primeira ordem. Também é preferível que o feixe de luz incidente (6) seja modulado. O desenvolvimento da camada de fotorresistor é, então, monitorado por monitoração das mudanças no feixe de luz difratado (8) detectado pelo detetor (9).