Carta-patente expirada
#21.1
Patente extinta em 30/12/2014
23/06/2015
RPI 2320
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Dado oficial do INPI
PROCESSO DE PREPARAÇÃO DE RESINA POLIMÉRICA COM VISCOSIDADE E pH AJUSTÁVEIS E PROCESSO PARA O DEPÓSITO DE PALÁDIO CATALÍTICO SOBRE UM SUBSTRATO
Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · BE1994000099
Dados do pedido
Número
PI9406226Tipo
Patente de Invenção
Depósito
30/12/1994
Publicação
09/01/1996
PCT
BE1994000099 Andamento no INPI
- Depósito30/12/94
- Publicação09/01/96
- Exame
- Deferimento05/09/00
- Concessão20/02/01
- Expirado23/06/15
Carta-patente expirada em 23/06/2015: o prazo de proteção chegou ao fim. A tecnologia está em domínio público e pode ser explorada livremente no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 23/06/2015. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Blue Chips Holding
LU
Blue Chips Holding S.A.
LU
Semika S.A.
LU
Inventores
H. S. (pessoa física)
BE
J. S. (pessoa física)
BE
M. F. (pessoa física)
BE
M. D. (pessoa física)
BE
O. D. (pessoa física)
BE
P. D. (pessoa física)
BE
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
BE
94 00003 · 05/01/1994
Resumo técnico
Patente de Ivenção: "RESINA POLIMÉRICA COM VISCOSIDADE E pH AJUSTÁVEIS PARA O DEPÓSITO DE PALÁDIO CATALÍTICO SOBRE UM SUBSTRATO, SEU PROCESSO DE PREPARAçÃI E SUA UTILIZAçÃO". Resina polimérica com viscosidade e pH ajustáveis para o depósito de pal3adio catalítico sobre um substrato, compreendendo, em combinação, um sal de paládio, um complexante do tipo ácido carboxílio ou cloreto, um polímero contendo grupos e/ou carboxila solúvel em água, um composto básico e um solvente escolhido entre a água, o metanol e o etanol, seu processo de preparação e suas aplicações.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Transferência deferida
#25.1
Transferido de: Semika S.A.
29/05/2012
RPI 2160
Transferência deferida
#25.1
Transferido de: Blue Chips Holding
29/03/2005
RPI 1786
Concessão da patente
#16.1
20/02/2001
RPI 1572
Deferimento
#9.1
Observação: Na confecção da Carta Patente deverão ser apostilados os seguintes erros datilográficos: No quadro reivindicatório, na pág. 4, linhas 17, 21 e 26 e na pág. 5, linhas 3, 7 e 11 onde se lê "de que concentração", leia-se "de que a concentração"; e na pág. 8, linha 16 onde se lê "laser, spray", leia-se "laser ou spray", e nas linhas 20 e 21 onde se lê "eletromagnéticas, de motivos decorativos", leia-se "eletromagnéticas ou de motivos decorativos".
05/09/2000
RPI 1548
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
02/05/2000
RPI 1530
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
16/11/1999
RPI 1506
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
09/01/1996
RPI 1310
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