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Dado oficial do INPI

COMPOSIÇÃO AQUOSA PARA A LIMPEZA DE SUPERFÍCIES MÚLTIPLAS, PROCESSO DE LIMPEZA DE SUPERFÍCIES DURAS E SUJAS, E, PROCESSO DE LIMPEZA DE SUBSTRATOS FIBROSOS SUJOS.

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US1994000907

Dados do pedido

Número

PI9406028

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

25/01/1994

Publicação

26/12/1995

PCT

US1994000907

Andamento no INPI

  1. Depósito25/01/94
  2. Publicação26/12/95
  3. Exame
  4. Deferimento26/03/02
  5. Arquivado
  6. Em vigor

Pedido deferido em 26/03/2002, mas arquivado por falta do pagamento da concessão (art. 38 da LPI). A carta-patente nunca foi emitida.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 07/01/2003. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Minnesota Mining And Manufacturing Company

US

Ver toda a carteira desta empresa

Inventores

J. M. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

08/039,632 · 30/03/1993

Resumo técnico

São apresentadas composições de limpeza de superfícies múltiplas e processos de uso. As composições dentro da invenção, que são substancialmente não formadoras de estrias sobre superfícies dura, compreendem: a) um tensoativo selecionado do grupo consistindo de óxidos de amina dentro da fórmula geral da Figura (I), e sais de amina quaternária dentro da fórmula geral da Figura (II); b) um composto orgânico polar muito ligeiramente solúvel em água e, de preferência, c) uma proporção efetiva de um composto orgânico solúvel em água, selecionado de éteres de glicol solúveis em água e álcoois alquílicos solúveis em água, onde R^ 1^ e R^ 2^ são os mesmos ou diferentes e são selecionados do grupo consistindo de grupos alquila e alquila substituído, R^ 3^ é selecionado do grupo consistindo de alquilas de cadeia linear, alquilas de cadeia ramificada, heteroalquilas de cadeia linear e heteroalquilas de cadeia ramificada tendo de cerca de 10 a 20 átomos de carbono, R^ 4^ é selecionado do grupo consistindo de grupos alquila tendo de 1 a cerca de 5 átomos de carbono (de preferência, metila) e X é um átomo de halogênio, de preferência, cloro atômico.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento - Art. 38 §2° da LPI

#11.4

07/01/2003

RPI 1670

Deferimento

#9.1

26/03/2002

RPI 1629

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

30/10/2001

RPI 1608

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

23/01/2001

RPI 1568

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

26/12/1995

RPI 1308

Monitoramento de patentes

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