11.30
18/04/2000
RPI 1528
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Dado oficial do INPI
MATERIAIS REFRATÁRIOS DE BIÓXIDO DE ZIRCÔNIO FUNDIDO NÃO-ESTABILIZADO, MATERIAIS REFRATÁRIOS DE BIÓXIDO DE ZIRCÔNIO FUNDIDO PARCIALMENTE OU TOTALMENTE ESTABILIZADO; PROCESSO PARA PRODUÇÃO DE MATERIAIS REFRATÁRIOS DE BIÓXIDO DE ZIRCÔNIO FUNDIDO NÃO-ESTABILIZADO, OU PARCIALMENTE OU TOTALMENTE ESTABILIZADO E PRODUTOS REFRATÁRIOS
ArquivadaPatente de Invenção
Dados do pedido
Número
PI9402667Tipo
Patente de Invenção
Depósito
08/07/1994
Publicação
02/05/1995
Andamento no INPI
- Depósito08/07/94
- Publicação02/05/95
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado pelo INPI. O processo foi encerrado sem chegar a patente e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 18/04/2000. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Japan Abrasive Co., Ltd
JP
K. T. (pessoa física)
JP
M. T. (pessoa física)
JP
Y. O. (pessoa física)
JP
Inventores
K. T. (pessoa física)
JP
M. T. (pessoa física)
JP
Y. O. (pessoa física)
JP
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
JP
5-169212 · 08/07/1993
Resumo técnico
Materiais refratários de bióxido de zircônio fundidos tendo teor inferior de SiO~ 2~, elevada resistência de partícula e dureza e menor teor de elementos radioativos, particularmente materiais refratários de bióxido de zircônio fundido não estabilizado, parcialmente ou totalmente estabilizado obtidos de bióxido de zircônio dessilicado derivado de zircão tendo 0,01 - 0,5% em peso de SiO~ 2~, tamanho de cristal maior do que 50 um ou 300 um, resistência de partícula de 30kgf, dureza de pelo menos 10 ou 11 GPa e os mesmos materiais tendo uma quantidade total de U e Th sendo abaixo de 1.000 ppm, e produtos refratários utilizando os referidos materiais bem como um processo para a produção dos referidos materiais por um processo de eletrofusão.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
11.14
Referente a publicação 11.1 efetuada na RPI 1521 de 29/02/2000
11/04/2000
RPI 1527
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
29/02/2000
RPI 1521
Publicação do pedido de patente
#3.1
02/05/1995
RPI 1274
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