Republicação - classificação IPC
#15.11
Procedimento automático de reclassificação. As classificações IPC anteriores eram: G11B 5/84; G11B 5/72; C23C 16/50; G11B 5/704; G11B 5/64.
27/03/2018
RPI 2464
Dados do pedido
Número
PI9307877Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US1993007295 Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 03/08/1993, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 27/03/2018. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Minnesota Mining And Manufacturing Company
US
Inventores
D. S. (pessoa física)
US
G. K. (pessoa física)
US
R. D. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Resumo técnico
Patente de Invenção "PROCESSO PARA DEPOSIÇÃO DE PLASMA DE UM REVESTIMENTO RICO EM CARBONO SOBRE UM SUBSTRATO, PRODUTO, E, MEIO DE REGISTRO MAGNÉTICO". A presente invenção fornece um meio de registro magnético que inclui um substrato flexível polimérico e uma camada polimérica aderida à camada magnética. A presente invenção também fornece um processo para a deposição de plasma do revestimento rico em carbono sobre um substrato, que compreende os estágios de: a) fornecimento de um substrato em uma camâra de vácuo; b) geração de um plasma rico em carbono, na câmara de vácuo, pela injeção de gás de plasma adequado para prover um revestimento rico em carbono em um catodo oco alongado; e provisão de uma tensão suficiente para criar e manter um plasma; e manutenção de um vácuo, na câmara de vácuo suficiente para o plasma; e c) exposição da substância ao plasma, enquanto o meio magnético é influenciado por um eletrodo de grade de rádio-frequência, para acelerar o plasma para o substrato e depositar o revestimento rico em carbono sobre o substrato.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#15.11
Procedimento automático de reclassificação. As classificações IPC anteriores eram: G11B 5/84; G11B 5/72; C23C 16/50; G11B 5/704; G11B 5/64.
27/03/2018
RPI 2464
#11.1
29/02/2000
RPI 1521
#1.3
06/08/1996
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