Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente às anuidades 6ª, 7ª e 8ª.
19/03/2002
RPI 1628
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Dado oficial do INPI
PROCESSO PARA A LIMPEZA DE UM SUBSTRATO POSSUINDO UM CONTAMINANTE
Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · US1993006508
Dados do pedido
Número
PI9306718Tipo
Patente de Invenção
Depósito
09/07/1993
Publicação
08/12/1998
PCT
US1993006508 Andamento no INPI
- Depósito09/07/93
- Publicação08/12/98
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 19/03/2002. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
The Clorox Company
US
Inventores
D. C. (pessoa física)
US
J. M. (pessoa física)
US
J. L. (pessoa física)
US
R. I. (pessoa física)
US
S. K. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Prioridades unionistas
US
07/912,933 · 13/07/1992
Resumo técnico
Patente de Invenção"PROCESSO PARA A LIMPEZA DE UM SUBSTRATO POSSUINDO UM CONTAMINANTE".A invenção proporciona um processo de limpeza no qual um solvente tal como o dióxido de carbono densificado podeser usado para a limpeza rápida e eficiente, mas com dano diminuído dos componentes sólidos tais como botões. O processo compreende contactar um substrato a ser limpo com um primeiro fluido do contacto com o substrato enquanto que o substitui com um segundo fluido, e recuperar o substrato substancialmente livre do primeiro e segundo fluidos e do contaminante. O primeiro fluido é gás densificado enquanto que o segundo fluido é um gás comprimido. Uma modalidade preferida do processo inclui o uso de pré-tratamento designado para a compatibilidadecom o primeiro fluido densificado.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Deferimento
#9.1
10/07/2001
RPI 1592
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
19/12/2000
RPI 1563
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
08/12/1998
RPI 1457
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