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Dado oficial do INPI

PROCESSO PARA A PREPARAÇÃO DE UM LAQUEAMENTO EM DUAS CAMADAS E LACAS EM PÓ ADEQUADAS PARA ESTE PROCESSO

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · EP1993001601

Dados do pedido

Número

PI9306705

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

23/06/1993

Publicação

08/12/1998

PCT

EP1993001601

Andamento no INPI

  1. Depósito23/06/93
  2. Publicação08/12/98
  3. Exame
  4. Deferimento20/02/01
  5. Concessão26/06/01
  6. Expirado09/07/13

Carta-patente expirada em 09/07/2013: o prazo de proteção chegou ao fim. A tecnologia está em domínio público e pode ser explorada livremente no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 09/07/2013. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Basf Lacke + Farben Aktiengesellschaft

DE

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Inventores

C. H. (pessoa física)

DE

J. W. (pessoa física)

DE

J. R. (pessoa física)

DE

K. C. (pessoa física)

DE

W. K. (pessoa física)

DE

Dados técnicos

Prioridades unionistas

DE

P 42 22 194.3 · 07/07/1992

Resumo técnico

Patente de Invenção: "PROCESSO PARA A PREPARAÇÃO DE UM LAQUEMENTO EM DUAS CAMADAS E LACAS EM PÓ ADEQUADAS PARA ESTE PROCESSO ". A invenção refere-se a um processo para a preparação de laqueamentos de duas camadas, no qual uma laca básica pigmentada é previamente laqueada, a camada da laca básica assim obtida é sobrelaqueada com uma laca clara em pó e, em seguida, a camada da laca básica e a camada da laca clara são tratadas juntas em estufa. Com laca clara em pó aplica-se de acordo com a invenção uma laca em pó, que contém uma resina de poliacrilato contendo grupos epóxido como adesivo e uma mistura de (A) um polianidrido e (B) uma resina de poliéster contendo grupos carboxila como agente de reticulação. A resina de poliéster é preparável, reagindo-se um diol (b1), um compostos (b2), que contêm por molécula pelo menos três grupos funcionais escolhidos do grupo hidroxila, amino primário, amino secundário, carboxila e anidrido de ácidos e (b3) um ácido dicarboxílico em uma razão molar de (b1): (b2):(b3) = 0,0 até 3,0: 1,0: 1,5 até 9,0 para a formação de uma resina de poliéster com um índice de acidez de 40 até 300.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Carta-patente expirada

#21.1

Patente extinta em 23/06/2013

09/07/2013

RPI 2218

Concessão da patente

#16.1

26/06/2001

RPI 1590

Deferimento

#9.1

20/02/2001

RPI 1572

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

23/05/2000

RPI 1533

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

08/12/1998

RPI 1457

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