Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
18/04/2000
RPI 1528
Dados do pedido
Número
PI9306574Tipo
Depósito
Publicação
PCT
EP1993001330 Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 18/04/2000. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Unilever N.V.
NL
Inventores
J. W. (pessoa física)
T. I. (pessoa física)
GB
Classificação IPC
Prioridades unionistas
GB
9213073.1 · 18/06/1992
GB
9215902.9 · 27/07/1992
GB
9218080 · 25/08/1992
Resumo técnico
Patente de Invenção "COMPOSIÇÃO PARA LIMPEZA, HOMOGÊNEA, ISOTRÓPICA, AQUOSA, CONTENDO SOLVENTE". A invenção proporciona uma composição aquosa, homogênea, para limpeza, a qual compreende agente tensoativo e solvente, e é caracterizada pelo fato de que ela forma uma emulsão de solvente-água durante a evaporação de pelo menos uma parte do solvente. Em tais sistemas o sistema de solvente é selecionado de tal forma que ele compreenda: um primeiro componente solvente em uma tal quantidade que ele está presente em um nível acima do limite de miscibilidade daquele componente com a água, e, um segundo componente solvente que é suficientemente volátil que, em uso, ele evapora da composição para deixar uma mistura do primeiro componente solvente e água, estando o citado segundo componente solvente presente em um nível tal que o primeiro componente solvente está solubilizado na composição. Na utilização, o segundo componente solvente evapora da composição total e o primeiro componente e a água remanescentes separam em fases, formando deste modo uma emulsão, por meio da qual a ação de limpeza do primeiro componente solvente é potencializada. A emulsão formada geralmente possui uma fase dispersa grosseira. Isto fornece a vantagem de um produto de não-emulsão estável quando considerado a armazenagem, dosagem e manufatura, o qual emprega um nível relativamente baixo de sovente e proporciona os benefícios de limpeza de um sistema livre de solvente.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.2
18/04/2000
RPI 1528
#6.1
21/09/1999
RPI 1498
#1.3
08/12/1998
RPI 1457
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