COMPOSIÇÃO PARA REVESTIMENTO DE LIBERAÇÃO, SUBSTRATO, E, PROCESSO DE FORMAÇÃO DE UM SUBSTRATO REVESTIDO COM REVESTIMENTO DE LIBERAÇÃO

Classificação IPC

Prioridades unionistas

Resumo técnico

Patente de Invenção "COMPOSIÇÃO PARA REVESTIMETO DE LIBERAÇÃO, SUBSTRATO, E, PROCESSO DE FORMAÇÃO DE UM SUBSTRATO REVESTIDO COM REVESTIMENTO DE LIBERAÇÃO". Uma composição para revestimeto de liberação que compreende: (a) um polidiorganossiloxano que tem pelo menos um grupo a hidrolisável reativo ligado a um átomo de silício, em R^ 3^ é um grupo alquila monovalente que compreende aproximadamente 1 até 3 átomos de carbono; Z é um grupamento monovalente selecionado do grupo que consiste de -OR e -R em que R é um grupo alquila que tem aproximadamente 1 a 3 átomos de carbono; Y é um grupo de ligação alquileno divalente que compreende aproximadamente 12 átomos de carbono; Q é um grupo de ligação divalente selecionado entre uréia, amida, uretana, tiuretana, éter e tioéter; t é um número inteiro de 0 a 10; e X é um grupo de ligação alquileno divalente compreendendo aproximadamente 1 a 12 átomos de carbono; b) um componente selecionado do grupo de compostos de fórmula geral (R^ 3Ô)~ 3~-Si-A, hidrolisados dos mesmos, e misturas dos mesmos, em que R^ 3^ é como definido antes; A é um grupamento monovalente selecionado do grupo que consiste de -OR^ 3^, grupo alquila com aproximadamente 1 a 20 átomos de carbono, e -X-(Q)~ p~ - [D-Q~ h~ - (Y)~ b~ - Si- COR^ 3^)~ 3~ em que X, Q, t, Y e R^ 3^ são como definidos antes; D é um grupo divalente selecionado entre grupos alquileno com aproximadamente 2 a 30 átomos de carbono; grupos aralquileno com aproximadamente 6 a 30 átomos de carbono; grupos arileno com aproximadamente 6 até 30 átomos de carbono; e segmentos poliméricos divalenes que têm um peso molecular numérico médio de aproximadamente 500 até 10.000 selecionado entre poliéter, poliolefina, poliéster, polidieno e misturas dos mesmos; p é 0 ou 1; b é 0 ou 1; em que quando t é um número inteiro de 1 a 10, b deve ser igual a 1 e p deve ser igual a 1; em que quando t=0 e b=0, p deve também ser igual a 0; e (c) um componente selecionado entre ácidos que têm pKas menores do que aproximadamente 3, anidridos de ácidos que têm pKas menores do que aproximadamente 3, sais de amônio e de alquil amônio inferior de ácido que tem pKa menor do que aproximadamente 3, e misturas dos mesmos. A composição para revestimento de liberação da invenção tem excelente estabilidade e estocagem e estabilidade do banho e cura rapidamente, completamente e confiavelmnete em umidade atmosférica de uma maneira controlável quando aplicada como revestimento sobre uma variedade de substratos.