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Dado oficial do INPI

COMPOSIÇÕES PARA OBTENÇÃO DE TEMPOS DE RETARDO EM DOTONADOR

ArquivadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI9304837

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

23/11/1993

Publicação

18/07/1995

Andamento no INPI

  1. Depósito23/11/93
  2. Publicação18/07/95
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 23/11/1993, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 27/03/2018. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Britanite S/A Indústrias Químicas

PR, BR

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Inventores

J. C. (pessoa física)

BR

L. S. (pessoa física)

BR

M. F. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

Patente de Invenção de "COMPOSIÇÕES PARA OBTENÇÃO DE TEMPOS DE RETARDO EM DETONADOR", compreende essencialmente misturas dos oxidantes cromato de bário e tetróxido de chumbo, associadas a um combustível com características enérgicas, ou intermediárias, ou baixas de combustão, que definirá a faixa pré-determinada de tempos de retardo, e também associadas a um aglomerante, situando-se os limites de proporção entre os oxidantes de dez a noventa por cento entre eles, com geração de tempos de retardo variáveis de cinco milésimos de segundo a cinco segundos, observando-se que a proporção entre o cromato de bário e o tetróxido de chumbo, associados ao combustível adequado, regula a velocidade de queima do misto pirotécnico e também regula a energia necessária para a sua iniciação.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Republicação - classificação IPC

#15.11

Procedimento automático de reclassificação. A classificação IPC anterior era F24B 3/16.

27/03/2018

RPI 2464

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

29/02/2000

RPI 1521

Publicação do pedido de patente

#3.1

18/07/1995

RPI 1285

Pedido de patente depositado

#2.1

16/02/1994

RPI 1211

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