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Dado oficial do INPI

COMPOSIÇÃO E MÉTODO PARA REMOVER CONTAMINANTES DE UM SUBSTRATO SÓLIDO ESCOLHIDO

Arquivada/ExtintaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI9302421

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

21/06/1993

Publicação

22/03/1994

Andamento no INPI

  1. Depósito21/06/93
  2. Publicação22/03/94
  3. Arquivado26/07/94
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 26/03/2002. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Hughes Aircraft Company

US

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Inventores

E. E. (pessoa física)

US

G. C. (pessoa física)

US

S. B. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

901,297 · 19/06/1992

Resumo técnico

Uma composição para remover contaminantes de um substrato sólido escolhido enquanto evita impacto ambiental negativo compreende: (a) um oxidante selecionado do grupo de (1) agentes oxidantes que geram peroxido de hidrogênio na dissolução em água, o agente oxidante presente em uma quantidade suficiente para gerar cerca de 0,01 por cento em peso de peroxido de hidrogênio baseado na composição até o limite de solubilidade do agente oxidante na composição, e (2) sais de oxi-ácidos de halogênio, presente em uma quantidade cerca de 0,01 por cento em peso da composição até o limite de solubilidade do sal de oxi-ácido de halogênio na composição; (b) um composto alcalino em quantidade suficiente para prover um pH de 7,0 ou maior na composição; (c) cerca de 0,01 a 5,0 por cento em peso de um agente de umidecimento escolhido o qual é não-reativo com oxidante e composto alcalino; e (d) água desionizada como balanço da dita composição. Opcionalmente, a composição pode compreender ainda cerca de 0,01 a 10,0 por cento em peso de um agente de proteção de materiais escolhido. Em operação, o substrato sólido tendo contaminantes sobre o mesmo é exposto à composição demonstrada acima pelo que os contaminantes são removidos do substrato e são convertidos em produtos não-tóxicos e não-perigosos. Em uma modalidade alternativa, a remoção de contaminante é ainda aumentada por exposição da composição e dos contaminantes sobre o substrato à radiação ultravioleta.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 5ª, 6ª, 7ª, 8ª anuidades.

26/03/2002

RPI 1629

Solicitação de exame técnico

#4.1

26/07/1994

RPI 1234

Publicação do pedido de patente

#3.1

22/03/1994

RPI 1216

2.3

21/09/1993

RPI 1190

Pedido de patente depositado

#2.1

20/07/1993

RPI 1181

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