Arquivamento - Art. 38 §2° da LPI
#11.4
28/02/2001
RPI 1573
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Dado oficial do INPI
PROCESSO E APARELHO PARA LIMPEZA DE PELO MENOS UM SUBSTRATO FOTORECEPTOR
ArquivadaPatente de Invenção
Dados do pedido
Número
PI9300762Tipo
Patente de Invenção
Depósito
05/03/1993
Publicação
23/11/1993
Andamento no INPI
- Depósito05/03/93
- Publicação23/11/93
- Exame21/11/95
- Deferimento23/05/00
- Arquivado
- Em vigor
Pedido deferido em 23/05/2000, mas arquivado por falta do pagamento da concessão (art. 38 da LPI). A carta-patente nunca foi emitida.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 28/02/2001. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
X. C. (pessoa física)
US
Inventores
E. S. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
07/858.807 · 27/03/1992
Resumo técnico
Um processo e aparelho para limpeza de substratos fotoreceptores onde pelo menos um substrato é girado em um banho de partículas de gelo seco em circulação. As partículas de gelo seco contactam a superfície externa de substrato, se liquefazem localmente ao contato e recongelam-se para capturar contaminantes particulados sobre a superfície externa das partículas de gelo seco. Um fluxo de gás inerte em contracorrente ao fluxo de partículas de gelo seco em circulação é abastecido para aumentar a eficiência da limpeza e auxiliar a remover dióxido de carbono, contaminantes e pequenas partículas de gelo seco.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Deferimento
#9.1
23/05/2000
RPI 1533
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
23/11/1999
RPI 1507
Solicitação de exame técnico
#4.1
21/11/1995
RPI 1303
Publicação do pedido de patente
#3.1
23/11/1993
RPI 1199
Pedido de patente depositado
#2.1
20/04/1993
RPI 1168
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