Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
26/06/2001
RPI 1590
Dados do pedido
Número
PI9300533Tipo
Depósito
Publicação
Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 26/06/2001. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Praxair Technology, Inc.
US
Inventores
R. P. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
834.787 · 13/02/1992
Resumo técnico
A presente invenção faz uso de um primeiro estágio ou estágio de desbastação para remover o grosso da umidade, e um segundo estágio ou estágio de polimento para completar a secagem. O primeiro estágio pode utilizar uma área de membrana relativamente pequena e um gás de purga de qualidade relativamente baixa, enquanto que o segundo estágio pode utilizar uma grande área de membrana e um gás de purga de alta qualidade, tal como alguma retropurga de produto. O arranjo provê a utilização eficaz de gás de purga de alta qualidade disponível, tal como o produto, enquanto que minimiza a contaminação do produto. Esse arranjo de purga de dois estágios é especialmente atraente para os processos ou sistemas nos quais dispõem-se de gases de purga de múltiplos tipos.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.2
26/06/2001
RPI 1590
#6.1
11/01/2000
RPI 1514
#4.1
10/01/1995
RPI 1258
#3.1
17/08/1993
RPI 1185
#2.1
30/03/1993
RPI 1165
Do mesmo titular
Da mesma categoria
Monitoramento de patentes
Receba alertas de despachos, decisões e vencimentos do INPI para o seu portfólio.