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Dado oficial do INPI

PROCESSO PARA REVESTIMENTO DE UM SUBSTRATO.

ExtintaPatente de InvençãoPCT · US1992010479

Dados do pedido

Número

PI9206427

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

20/08/1992

Publicação

17/10/1995

PCT

US1992010479

Andamento no INPI

  1. Depósito20/08/92
  2. Publicação17/10/95
  3. Exame31/10/95
  4. Deferimento14/09/99
  5. Concessão08/03/00
  6. Extinto30/03/21

Patente concedida em 08/03/2000 e depois extinta em 30/03/2021. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 30/03/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

B. C. (pessoa física)

US

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Inventores

V. C. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

752033 · 29/08/1991

Resumo técnico

Uma composição de dois componentes adequada para o revestimento de um substrato compreende pelo menos um reticulador tendo uma funcionalidade que é reativa com uma funcionalidade em pelo menos um polímero formador de película presente em um componente separado da composição. O reticulador compreende pelo menos um membro selecionado do grupo constituído por: (1) um isocianurato de diisocianato de isoforona; (2) um derivado de um isocianurato de diisocianato de isoforona; (3) um biureto de diisocianato de isoforona; e (4) um derivado de um biureto de diisocianato de isoforona. A composição compreende de preferência uma mistura do reticulador com um segundo reticulador, no qual o segundo reticulador pelo menos um membro selecionado do grupo constituído por: (1) um isocianurato de diisocianato de hexametileno; (2) um derivado de um isocianurato de diisocianato de hexametileno; (3) um biureto de diisocianato de hexametileno; e (4) um derivado de um biureto de diisocianato de hexametileno. A invenção diz também respeito a um processo para revestir um substrato usando a composição, bem como a um revestimento curado formado pelo processo da presente invenção.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Manutenção da Extinção - Art. 78 inciso IV da LPI

#24.10

Em virtude da extinção publicada na RPI 2606 de 15-12-2020 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

30/03/2021

RPI 2621

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente às 11ª, 12ª, 13ª, 14ª, 15ª, 16ª, 17ª e 18ª anuidades.

15/12/2020

RPI 2606

24.6

Anulada a publicação código 24.8 na RPI nº 2278 de 02/09/2014 por ter sido indevida.

08/12/2020

RPI 2605

24.8

02/09/2014

RPI 2278

24.3

referente á 11ª , 12ª , 13ª , 14ª , 15ª , 16ª , 17ª e 18ª anuidades.

15/02/2011

RPI 2093

Concessão da patente

#16.1

08/03/2000

RPI 1522

Deferimento

#9.1

14/09/1999

RPI 1497

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

27/04/1999

RPI 1477

Solicitação de exame técnico

#4.1

31/10/1995

RPI 1300

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

17/10/1995

RPI 1298

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