Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
29/08/2000
RPI 1547
Dados do pedido
Número
PI9206242Tipo
Depósito
Publicação
PCT
DE1992000526 Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 29/08/2000. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
A. M. (pessoa física)
DE
Inventores
K. H. (pessoa física)
DE
R. K. (pessoa física)
DE
Classificação IPC
Prioridades unionistas
DE
P 41 22 190.7 · 04/07/1991
Resumo técnico
A invenção refere-se a um processo para o tratamento contínuo de silício, no qual uma escória é levada em um baixo forno de cuba inclinável 1 com um tubo de descarga (4) que chega até o fundo da caldeira do forno, para uma temperatura de 1450 até 1800°C e por meio desta escória o silício sólido é fundido e/ou o silício líquido é continuamente refinado e o silício refinado líquido é atomizado, em seguida, por meio de ar comprimido ou de nitrogênio comprimido (7) e é transportado continuamente pela versão em um jato de água (9) para a calha (8) através de uma peneira de desidratação (10) para uma calha transportadora (11) e é obtido, assim, em forma pré-triturada. A invenção refere-se, além disso, a um dispositivo para exercer o processo.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
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