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Dado oficial do INPI

PROCESSO E DISPOSITIVO PARA REPROCESSAMENTO DE RESÍDUOS ORGÂNICOS, FLUÍDOS, CONTENDO COMPONENTES NOCIVOS E POLUENTES DO MEIO AMBIENTE

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · EP1992000933

Dados do pedido

Número

PI9205975

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

29/04/1992

Publicação

27/09/1994

PCT

EP1992000933

Andamento no INPI

  1. Depósito29/04/92
  2. Publicação27/09/94
  3. Arquivado21/02/95
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 14/11/2000. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

C. S. (pessoa física)

DE

Inventores

C. S. (pessoa física)

DE

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

DE

P 41 14 883.5 · 07/05/1991

Resumo técnico

Patente de Invenção: "PROCESSO E DISPOSITIVO PARA REPROCESSAMENTO DE RESÍDUOS ORGÂNICOS, FLUIDOS, CONTENDO COMPONENTES NOCIVOS E POLUENTES DO MEIO AMBIENTE". Partindo de um processo conhecido do inventor e de um dispositivo para a realização deste processo, no qual, para reprocessamento de resíduos orgânicos contendo componentes nocivos ou poluentes do meio ambiente, ocorre uma troca de energia, particularmente de energia térmica, com o resíduo, através do tubo, em um reator de um tubo, sendo que o resíduo é transformado, pelo menos parcialmente, em uma fase gasosa, e o fluxo de energia e o tempo durante o qual o resíduo é exposto ao mesmo (tempo de permanência) são regulados de tal modo que se ajusta a energia de ativação necessária para a separação dos materiais nocivos, é proposto de acordo com a invenção que, para aperfeiçoamento deste processo, particularmente no que se refere à possibilidade de aplicação e economia, o processo seja realizado em diversos estágios, sendo que, após cada estágio, são separados materiais nocivos e em cada estágio a fixação dos parâmetros que determinam a energia de ativação (energia, tempo de permanência) é novamente regulada.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

14/11/2000

RPI 1558

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

14/12/1999

RPI 1510

Solicitação de exame técnico

#4.1

21/02/1995

RPI 1264

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

27/09/1994

RPI 1243

Monitoramento de patentes

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