Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
31/08/1999
RPI 1495
Dados do pedido
Número
PI9203514Tipo
Depósito
Publicação
Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 31/08/1999. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
General Electric Company
US
Inventores
F. T. (pessoa física)
US
P. M. (pessoa física)
US
P. P. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
757.149 · 10/09/1991
Resumo técnico
Trata-se de uma composição de revestimento que apresenta resistência à abrasão aperfeiçoada, a qual compreende (A) uma composição que compreende (1) uma organopolissilsesquioxana com cadeia organooxi interrompida, (2) um tetraorganotitanato, (3) (a) uméster funcionalizado com siloxana que apresenta a fórmula geral (R^ 3^ O)~ 3-2n ~ SiO ~ n~ R^ 4^ OC(O)^ 5^ C(O)OR^ 6^ , na qual n é igual a 0, 1/2 ou 1, cada R^ 3^ é independentemente um radical de hidrocarboneto monovalente saturado ou insaturado contendo de 1 a aproximadamente 20 átomos de carbono, R^ 4^ é um radical de hidrocarboneto divalente contendo de 1 a aproximadamente 20 átomos de carbono, R^ 5^ é um radical olefínico conjugado divalente contendo de 2 a 4 átomos de carbono, e R^ 6^ é R^ 3^ ou -R^ 4^ SiO~ n~ (OR^ 3^ )~ 3-2n~ ; ou (b) uma cianoorganotriorganooxissilana; e (4) um éster de ácido carboxílico orgânico; e (B) de 0% a aproximadamente 85% de um diluente volátil. Também é provida uma composição de revestimento que apresenta resistência à abrasão aperfeiçoada, na qual a parte (A) é um copolímero da organopolissilsesquioxana (A)(1) acima e o éster (A)(3).
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.2
31/08/1999
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#4.1
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RPI 1284
#3.1
30/03/1993
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#2.1
13/10/1992
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