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Dado oficial do INPI

COMPOSTO, COMPOSIÇÃO DE LAVAGEM, SISTEMA DE LAVAGEM AQUOSO, MÉTODO DE LAVAR ARTIGOS, PROCESSO PARA REMOVER H2S OU NOX DE UM FLUIDO, MÉTODO PARA QUELAR UM ION METÁLICO

ArquivadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI9202645

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

08/07/1992

Publicação

16/03/1993

Andamento no INPI

  1. Depósito08/07/92
  2. Publicação16/03/93
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 08/07/1992, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 10/10/1995. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

The Dow Chemical Company

US

Ver toda a carteira desta empresa

Inventores

D. C. (pessoa física)

US

H. H. (pessoa física)

US

J. S. (pessoa física)

US

J. G. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Prioridades unionistas

US

729,514 · 12/07/1991

Resumo técnico

"COMPOSTO, COMPOSIÇÃO DE LAVAGEM, SISTEMA DE LAVAGEM AQUOSO, MÉTODO DE LAVAR ARTIGOS, PROCESSO PARA REMOVER H~ 2~ S OU NO~ x~ DE UM FLUIDO, MÉTODO PARA QUELAR UM ION METÁLICO", onde novos compostos são representados pelas Fórmulas 1 e 2 em que a Fórmula 1 é (Vide fórmula) em que cada um de R^ 1^ , R^ 2^ , R^ 3^ e R^ 4^ é independentemente H, hidroxialquil, -C(R^ 6^ )~ 2~ COOH ou amônio, amina ou sais de metais alcalinos dos mesmos; R^ 5^ é um grupo alquileno tendo pelo menos um grupo carbonila; e cada R^ 6^ é independentemente selecionado de H, e grupos alquil de 1 a 4 átomos de carbono, cadeia reta ou ramificada, preferivelmente H, -CH~ 3~ , ou -C~ 2~ H~ 5~ , mais preferivelmente cada R^ 6^ é H e a Fórmula 2 é: (vide fórmula) em que R^ 1^ , R^ 2^ , R^ 3^ , R^ 4^ , R^ 5^ , e R^ 6^ estão definidos para a Fórmula 1, preferivelmente pelo menos 3, mais preferivelmente 4 de R^ 1^ , R^ 2^ , R^ 3^ e R^ 4^ são independentemente -C(R^ 6^ )~ 2~ COOH ou sais do mesmo; e cada R^ 7^ é independente R^ 5^ ou um grupo alquileno. Os compostos são vantajosamente foto- e bio-degradáveis e são particularmente úteis como quelantes em composições de lavagem e em condicionamento de gás.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

10/10/1995

RPI 1297

Publicação do pedido de patente

#3.1

16/03/1993

RPI 1163

Pedido de patente depositado

#2.1

18/08/1992

RPI 1133

Monitoramento de patentes

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