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Dado oficial do INPI

MÉTODO DE PRODUÇÃO DE UMA IMAGEM POSITIVA SOBRE UM SUBSTRATO E SUBSTRATO

ArquivadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI9200173

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

21/01/1992

Publicação

06/10/1992

Andamento no INPI

  1. Depósito21/01/92
  2. Publicação06/10/92
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 21/01/1992, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 06/12/1994. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Ciba-Geigy AG

CH

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Inventores

K. H. (pessoa física)

GB

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

GB

9101345.8 · 22/01/1991

Resumo técnico

Trata-se de um método de produção de uma imagem positiva em um substrato, método esse que compreende as etapas de: a) imersão de um laminado coberto com cobre, como cátodo, em um banho eletrolítico contendo um polímero não fotossensível eletrodepositável, e uma película do polímero é eletrodepositada sobre o laminado; b) imersão do laminado, revestido com o polímero na etapa a), como ânodo, ou de preferência como cátodo, em um banho eletrolítico contendo uma naftoquinona diazida sulfonamida de fórmula (I): (vide fórmula I) na qual R~ a~ e R~ b~ consistem independentemente em hidrogênio, contanto que R~ a~ e R~ b~ não sejam ambos hidrogênio; alquileno C~ 1~ -C~ 8~ substituído por um grupo amino opcionalmente substituído; um grupo fenil que é opcionalmente substituído por um grupo amino; ou R~ a~ e R~ b~ formam conjuntamente um anel heterocíclico opcionalmente substituído de 5 ou 6 membros que ou contém um grupo contendo amino dentro do anel, ou tem um grupo contendo amino substituído no anel, e uma película da sulfonamida é eletrodepositada no laminado revestido com polímero; c) irradiação do laminado revestido seco obtido na etapa b) através de uma máscara; e d) revelação do laminado revestido irradiado, para se obter uma imagem positiva da máscara.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

06/12/1994

RPI 1253

Publicação do pedido de patente

#3.1

06/10/1992

RPI 1140

Pedido de patente depositado

#2.1

18/02/1992

RPI 1107

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