Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
10/08/1999
RPI 1492
Dados do pedido
Número
PI9200133Tipo
Depósito
Publicação
Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 10/08/1999. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
L. B. (pessoa física)
PE, BR
Inventores
L. B. (pessoa física)
BR
Classificação IPC
Resumo técnico
"PROCESSO PARA TRATAMENTO ELETROLÍTICO DE ÁGUAS DE ABASTECIMENTO E ÁGUAS RESIDUÁRIAS", constituído pelas seguintes etapas: 1) gradeamento e medição (1) - onde ocorre a retenção de sólidos grosseiros e a medição de vazão afluente; 2) sistema elevatório (2) - nesta etapa o líquido a ser tratado movimenta-se através de bombeamento, para elevação da cota de montante; 3) o líquido atinge a caixa de distribuição (3), onde uma sucessão de câmaras de níveis constantes dividem a vazão afluente; 4) ELETRÓLISE (4) - consiste na passagem de uma corrente elétrica através da água em processamento que é colocada preenchendo o vazio entre eletrodos de material condutivo; 5) floculação flotação (6) - ocorre na própria unidade de eletrólise, e pode ser complementada numa unidade própria para aproveitamento da ação de arraste do gás hidrogênio remanescente e da ação coagulante restante no efluente eletrolisado; 6) decantação (7) - após a flotação ou mesmo eletrólise, o líquido pode ser encaminhado a uma unidade de decantação; (7) filtração ou percolação (8) - o efluente da unidade de decantação pode sofrer filtração ou percolação numa unidade específica; 8) adsorção (9) - o efluente da etapa de filtração também pode ser encaminhado para uma unidade de adsorção; e 9) desinfecção (10) - o efluente destas unidades, de filtração, percolação ou adsorção, pode sofrer uma etapa de desinfecção, como por exemplo aplicação, de cloro, que destruirá os organismos patogênicos remanescentes e/ou permanecerá em solução a concentrações desejáveis de cloro livre residual.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.2
10/08/1999
RPI 1492
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04/08/1998
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#4.1
31/10/1995
RPI 1300
03/10/1995
RPI 1296
#11.1
22/08/1995
RPI 1290
#3.1
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#2.1
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