Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
18/10/1994
RPI 1246
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Dado oficial do INPI
PROCESSO PARA FABRICAÇÃO DE UMA , B-MONONITRILA INSATURADA, E CATALISADOR DE ÓXIDO DE METAL
ArquivadaPatente de Invenção
Dados do pedido
Número
PI9105234Tipo
Patente de Invenção
Depósito
02/12/1991
Publicação
18/08/1992
Andamento no INPI
- Depósito02/12/91
- Publicação18/08/92
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 02/12/1991, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 18/10/1994. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
The Standard Oil Company
US
Inventores
J. B. (pessoa física)
US
L. G. (pessoa física)
US
M. T. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
620.814 · 03/12/1990
Resumo técnico
É revelado um processo para fabricação de ,ß-Mononitrila insaturada pela reação catalítica de uma parafina contendo 3-5 átomos de carbono com oxigênio molecular e amônia pelo contato catalítico dos reagentes acima em uma zona de reação com um catalisador de óxido de metal contendo os elementos indicados pela fórmula empírica (Vide Fórmula) nas proporções atômicas relativas indicadas pelo subscritos, onde A é selecionado de Te e Bi; D é um ou mais elementos opcionais selecionados a partir de Mo, W, Ti, Ge, Ce, La, Cr, Mn, Mg, Ca, Co, Ni, Fe, Nb, Ta, Ag, Zn, Cd, B, P, Na, K e Cs; e a é 0,001 a 30; d é zero a 30; c é 0,001 a 30 m é 0,1 a 60; n é 0,1 a 60; n/v é > 12 e = v + a + c + d; e x é determinado pelas exigências de valência dos elementos presentes, e em que os reagentes alimentados para a zona de reação contêm uma razão molar da referida parafina: NH~ 3~ na faixa de 2 a 16 e uma razão molar da referida parafina: O~ 2~ na faixa de 1 a 10.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Publicação do pedido de patente
#3.1
18/08/1992
RPI 1133
Pedido de patente depositado
#2.1
28/01/1992
RPI 1104
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