Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente à 3ª e 4ª anuidade.
16/05/2000
RPI 1532
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Dado oficial do INPI
VENTANEIRA COM LANÇA PARA INJEÇÃO DE GASES REDUTORES EM ALTOS FORNOS
Arquivada/ExtintaPatente de Invenção
Dados do pedido
Número
PI9104847Tipo
Patente de Invenção
Depósito
07/11/1991
Publicação
11/05/1993
Andamento no INPI
- Depósito07/11/91
- Publicação11/05/93
- Arquivado18/07/95
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 16/05/2000. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Companhia Brasileira de Projetos Industriais-COBRAPI
RJ, BR
Inventores
R. S. (pessoa física)
BR
R. V. (pessoa física)
BR
Dados técnicos
Classificação IPC
Resumo técnico
Trata-se de um sistema de injeção de gases redutores em altos fornos proporcionando considerável redução no consumo de redutores sólidos (coque e carvão vegetal). O gás redutor é transportado em tubulação de aço carbono. O sistema é composto de válvula controladora de pressão (1), válvula de segurança (2), placa de orifício (3), anel de distribuição (4). Cada conjunto máximo de 10 ventaneiras possui um manifold (5) de onde saem linhas individuais de alimentação para as ventaneiras. Cada linha individual contempla placa de orifício (6), válvula controladora de vazão (7), mangueira flexível (8), válvula de retenção (9) e lança de injeção.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
8.1
Referente a 3ª, 4ª e 7ª anuidade.
29/12/1998
RPI 1460
Solicitação de exame técnico
#4.1
18/07/1995
RPI 1285
Publicação do pedido de patente
#3.1
11/05/1993
RPI 1171
Pedido de patente depositado
#2.1
10/12/1991
RPI 1097
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