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Dado oficial do INPI

VÁLVULA ESFÉRICA TENDO CAPACIDADE DE ALCANCE INERENTE APERFEIÇOADA

Arquivada/ExtintaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI9104326

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

08/10/1991

Publicação

24/11/1992

Andamento no INPI

  1. Depósito08/10/91
  2. Publicação24/11/92
  3. Exame11/01/94
  4. Deferimento09/05/95
  5. Concessão26/12/95
  6. Expirado29/06/10

Carta-patente expirada em 29/06/2010: o prazo de proteção chegou ao fim. A tecnologia está em domínio público e pode ser explorada livremente no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 29/06/2010. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

W. C. (pessoa física)

US

Inventores

D. R. (pessoa física)

US

R. O. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

07/666,921 · 11/03/1991

Resumo técnico

Uma válvula esférica tendo capacidade de alcance inerente aperfeiçoada, compreende uma esfera flutuante de desenho convencional que é giratória através substancialmente de 90° entre um par de assentos respectivamente localizados adjacente aos lados a montante e a jusante da válvula dentro de um alojamento de válvula. Pelo menos um dos assentos é um assento de metal impregnado com lubrificante de uma peça configurado para propiciar uma porção de superfície central côncava que faz contato de vedação direto de face total com a esfera, e que define múltipos orifícios espaçados que se estendem através do assento para aumentar o contato de fluido com metal de fluido passando através do assento desse modo para reduzir a pressão entre os lados à montante e à jusante da válvula. O padrão de orifícios pode ser tal de modo a fazer com que a válvula apresente uma percentagem igual de característica de fluxo para pelo menos uma porção da rotação da esfera e/ou uma característica de fluxo linear para pelo menos uma porção da rotação da esfera. Quando apenas um tal assento de múltiplos orifícios é utilizado na válvula, o outro assento pode ser um assento de fundos redondos, padrão, ou um assento fendilhado, ou um assento em V. Em cada caso, o contato de vedação direto entre a esfera e o assento de múltiplos orifícios evita vazamento de fluido a partir do furo da esfera através de quaisquer furos no assento que são cobertos por uma porção de superfície da esfera pelo que a válvula apresenta capacidade de alcance inerente aperfeiçoada.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Carta-patente expirada

#21.1

Patente extinta em 08/10/2006

29/06/2010

RPI 2060

Concessão da patente

#16.1

26/12/1995

RPI 1308

Notificação para pagamento de retribuição

#13.1

26/09/1995

RPI 1295

Deferimento

#9.1

09/05/1995

RPI 1275

Solicitação de exame técnico

#4.1

11/01/1994

RPI 1206

Publicação do pedido de patente

#3.1

24/11/1992

RPI 1147

Pedido de patente depositado

#2.1

12/11/1991

RPI 1093

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