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Dado oficial do INPI

COMPOSIÇÕES POLÍMERAS DE HALOGENETO DE VINILA QUE EXIBEM REDUZIDA PERMEABILIDADE A GÁS, FILME, E, FILMES PARA EMBALAGEM, FOLHAS E ARTIGOS OCOS

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US1990007398

Dados do pedido

Número

PI9007922

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

13/12/1990

Publicação

10/11/1992

PCT

US1990007398

Andamento no INPI

  1. Depósito13/12/90
  2. Publicação10/11/92
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 13/12/1990, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 20/09/1994. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

The B.F. Goodrich Company

US

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Inventores

S. K. (pessoa física)

US

S. P. (pessoa física)

US

T. B. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

450,717 · 14/12/1989

Resumo técnico

A invenção se refere a composições polímeras de halogeneto de vinila que exibem reduzida permeabilidade a gás que compreendem uma mistura de (A) pelo menos um polímero de halogeneto de vinila; (B) desde aproximadamente 1 até aproximadamente 40% em peso, baseado no peso do polímero de halogeneto de vinila (A), de um copolímero de etileno-álcool vinílico contendo desde aproximadamente 15 até aproximadamente 55 mol por cento de etileno; e (C) pelo menos um polímero contendo carbonila em que o grupo carbonila é selecionado do grupo que consiste de -C(O)-, -C(O)O-, -N-C(O)-, e -N-C(O)-O-. As composições da presente invenção podem ser termoformadas em uma ampla variedade de artigos úteis tais como filmes, folhas e artigos ocos que são caracterizados pelo fato de terem boa resistência ao impacto e integridade mecânica.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

20/09/1994

RPI 1242

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

10/11/1992

RPI 1145

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