Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
26/10/1993
RPI 1195
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Dado oficial do INPI
PROCESSO APERFEIÇOADO PARA MELHORAR O DESEMPENHO LITOGRÁFICO DE UMA COMPOSIÇÃO DE FOTO-RESISTO CONTENDO RESINA NOVOLACA E COMPOSIÇÃO APERFEIÇOADA DE FOTO-RESISTO COM ENDURECIMENTO POR ÁCIDO
ArquivadaPatente de Invenção
Dados do pedido
Número
PI9002205Tipo
Patente de Invenção
Depósito
11/05/1990
Publicação
13/08/1991
Andamento no INPI
- Depósito11/05/90
- Publicação13/08/91
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 11/05/1990, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 26/10/1993. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Rohm And Haas Company
US
Inventores
K. G. (pessoa física)
L. J. (pessoa física)
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Publicação do pedido de patente
#3.1
13/08/1991
RPI 1080
Pedido de patente depositado
#2.1
25/09/1990
RPI 1034
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