Publicação do pedido de patente
#3.1
26/04/1988
RPI 914
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Dado oficial do INPI
MÉTODO PARA DEPOSIÇÃO QUÍMICA EM FASE DE VAPOR, A BAIXA TEMPERATURA E BAIXA PRESSÃO, DE CAMADA(S) EPITAXIAL(AIS) DE SILÍCIO
PublicadaPatente de Invenção
Dados do pedido
Número
PI8704621Tipo
Patente de Invenção
Depósito
04/09/1987
Publicação
26/04/1988
Andamento no INPI
- Depósito04/09/87
- Publicação26/04/88
- Exame11/12/90
- Deferimento17/10/95
- Concessão30/07/96
- Expirado29/07/08
Carta-patente expirada em 29/07/2008: o prazo de proteção chegou ao fim. A tecnologia está em domínio público e pode ser explorada livremente no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 26/04/1988. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
I. C. (pessoa física)
US
Inventores
B. M. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
906,854 · 12/09/1986
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Pedido de patente depositado
#2.1
17/11/1987
RPI 891
Carta-patente expirada
#21.1
Patente extinta em 04/09/2002
29/07/2008
RPI 1960
Concessão da patente
#16.1
30/07/1996
RPI 1339
Republicação - classificação IPC
#15.11
19/12/1995
RPI 1307
Deferimento
#9.1
17/10/1995
RPI 1298
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
30/05/1995
RPI 1278
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
13/12/1994
RPI 1254
Conhecimento de parecer técnico
#7.1
29/03/1994
RPI 1217
Solicitação de exame técnico
#4.1
11/12/1990
RPI 1045
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