20.4
07/02/1984
RPI 694
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Dado oficial do INPI
PROCESSO PARA A PREPARACAO DE POS VOLATEIS RESIDUAIS CONTENDO DIOXIDO DE SILICIO PARA PENEIRA MOLECULAR ZEOLITICA CRISTALINA DO TIPO A
Em AnálisePatente de Invenção
Andamento no INPI
- Depósito11/11/76
- Publicação
- Exame
- Deferimento07/12/82
- Concessão28/06/83
- Expirado06/07/93
Carta-patente expirada em 06/07/1993: o prazo de proteção chegou ao fim. A tecnologia está em domínio público e pode ser explorada livremente no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 07/02/1984. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
DEGUSSA
HENKEL KGAA
Inventores
A. K. (pessoa física)
T. G. (pessoa física)
Dados técnicos
Classificação IPC
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Concessão da patente
#16.1
28/06/1983
RPI 662
Notificação para pagamento de retribuição
#13.1
17/05/1983
RPI 656
Deferimento
#9.1
07/12/1982
RPI 633
15.0
19/01/1982
RPI 587
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
22/12/1981
RPI 583
Carta-patente expirada
#21.1
06/07/1993
RPI 1179
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