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Dado oficial do INPI

PROCESSO DE IMPLANTAÇÃO IÔNICA POR IMERSÃO A PLASMA

Em AnálisePatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI1103752

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

24/08/2011

Publicação

28/08/2012

Andamento no INPI

  1. Depósito24/08/11
  2. Publicação28/08/12
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

O próprio depositante desistiu do pedido. O processo foi encerrado sem chegar a patente.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 20/09/2016. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

L. B. (pessoa física)

SP, BR

Inventores

L. B. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

PROCESSO DE IMPLANTAÇÃO IÔNICA POR IMERSÃO A PLASMA. Idealizada por um método para tratamento superficial que pode ser aplicado nos mais diversos tipos de materiais, desde metais, semicondutores, até dielétricos, pertencente ao campo dos artigos para tratamento de superficies de materiais; o inconveniente dos processos normalmente empregados no tratamento de superfícies de peças de aço por meio de banho de sais ou imersão em gás amônia sob alta pressão é o fato de que são tóxicos e de manuseio perigosos, sem mencionar que são problemáticos do ponto de vista ambiental, porque geram resíduos de alta periculosidade, como o banho de cianeto; a fim de solucionar esses inconvenientes foi desenvolvido o objeto do presente pedido de patente, denominado de processo de implantação iônica por imersão a plasma, compreendido por um tratamento por íons, o qual pode-se aplicar em vários ramos das atividades industriais e em vários tipos de materiais que sofram um desgaste por atrito; que necessitam de uma dureza para um aumento na vida útil da peça.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

10.1

Homologada a desistência do pedido solicitada através da petição N° 870160047305 de 26/08/2016.

20/09/2016

RPI 2385

Republicação - classificação IPC

#15.11

As classificações anteriores eram: C23C 14/40; C23C 4/10

16/08/2016

RPI 2380

Publicação antecipada

#3.2

28/08/2012

RPI 2173

Pedido de patente depositado

#2.1

17/04/2012

RPI 2154

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo 18110032866 em 24/08/2011 03:57(SP).

17/01/2012

RPI 2141

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