(11) 98705-3426
TrademarkIQ íconeTrademarkIQ
Voltar para busca
Dado oficial do INPI

ANODO PARA ELETRÓLISE E MÉTODO DE FABRICAÇÃO DO MESMO

Arquivada/ExtintaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI1102196

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

23/05/2011

Publicação

06/11/2012

Andamento no INPI

  1. Depósito23/05/11
  2. Publicação06/11/12
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

Falar com um especialista

Última movimentação publicada pelo INPI: 16/07/2019. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Permelec Electrode Ltd

JP

Inventores

T. H. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Prioridades unionistas

JP

2010-119245 · 25/05/2010

Resumo técnico

ANODO PARA ELETRÓLISE E MÉTODO DE FABRICAÇÃO DO MESMO. A presente invenção tem o objetivo de proporcionar um anodo para eletrólise por um processo de membrana de troca de íon e o método de fabricação do mesmo que pode mostrar a concentração mais baixa de subproduto de gás oxigênio em gás de cloro e a sobretensão mais baixa estável por um longo período de tempo, comparado com anodos convencionais. Solução do problema. A presente invenção se refere à preparação de um anodo para eletrólise, compreendendo um substrato compreendendo titánio ou liga de titânio e uma pluralidade de camadas de revestimento proporcionada pelo método de cocção de decomposição térmica na superfície do substrato, em que a camada de revestimento compreende uma primeira camada de revestimento compreendendo uma mistura de óxido de iridio, óxido de rutênio e óxido de titânio, proporcionada na superfície do substrato, uma segunda camada de revestimento compreendendo uma mistura de óxido de platina e índio, proporcionada na primeira camada de revestimento, a camada unitária compreendendo uma primeira camada de revestimento e uma segunda camada de revestimento, proporcionada na superfície da segunda camada de revestimento por uma única ou uma pluralidade de camadas, a a segunda camada de revestimento, proporcionada na camada mais externa da camada unitária; uma pluralidade de camadas é proporcionada na superfície do substrato por meio do método de cocção de decomposição térmica e a camada de revestimento é seguida por pós-cocção a uma temperatura de cocção mais elevada do que a anteriormente aplicada no método de cocção de decomposição térmica.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2516 de 26-03-2019 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

16/07/2019

RPI 2532

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 8ª anuidade.

26/03/2019

RPI 2516

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

10/04/2018

RPI 2466

Publicação do pedido de patente

#3.1

06/11/2012

RPI 2183

Pedido de patente depositado

#2.1

05/06/2012

RPI 2161

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo 20110053202 em 23/05/2011 05:02(RJ).

27/12/2011

RPI 2138

Monitoramento de patentes

Acompanhe esta patente em tempo real.

Receba alertas de despachos, decisões e vencimentos do INPI para o seu portfólio.