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Dado oficial do INPI

DISPOSITIVO COMPREENDENDO CONFINAMENTO ELESTROSTÁTICO DE PLASMA, PROCESSO DE TRATAMENTOS SUPERFICIAIS E SUPERFÍCIES TRATADAS POR TAL PROCESSO

ArquivadaPatente de Invenção
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Dados do pedido

Número

PI1100249

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

21/02/2011

Publicação

14/05/2013
Ver no INPI

Andamento no INPI

  1. Depósito21/02/11
  2. Publicação14/05/13
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 21/02/2011, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 16/12/2014. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Fundação Universidade de Caxias do Sul - Ucs

RS, BR

Ver toda a carteira desta empresa

Inventores

Â. C. (pessoa física)

BR

C. F. (pessoa física)

BR

F. C. (pessoa física)

BR

I. B. (pessoa física)

BR

S. G. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

C23C 8/36H01J 37/32

Resumo técnico

DISPOSITIVO COMPREENDENDO CONFINAMENTO ELETROSTÁTICO DE PLASMA, PROCESSO DE TRATAMENTOS SUPERFICIAIS E SUPERFÍCIES TRATADAS POR TAL PROCESSO. A presente invenção descreve um dispositivo de utilização do efeito de confinamento eletrostático de plasma pela técnica de catodo oco segmentado, também descreve um processo de tratamentos superficiais, visando aumentar a trajetória dos elétrons entre o cátodo e o ânodo, e assim aumentar a densidade do plasma, incrementar sua reatividade (plasmas mais densos e homogêneos); selecionar a energia ótima para gerar espécies ativas e o potencial ótimo para o bombardeio de lons. A presente invenção também descreve superfícies tratadas por tal processo.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

16/12/2014

RPI 2293

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

22/04/2014

RPI 2259

Publicação do pedido de patente

#3.1

14/05/2013

RPI 2210

Pedido de patente depositado

#2.1

03/04/2012

RPI 2152

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo 20110016927 em 21/02/2011 04:23(RJ).

29/11/2011

RPI 2134

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