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Dado oficial do INPI

MÉTODO

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US2010029900

Dados do pedido

Número

PI1011414

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

05/04/2010

Publicação

15/03/2016

PCT

US2010029900

Andamento no INPI

  1. Depósito05/04/10
  2. Publicação15/03/16
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado pelo INPI. O processo foi encerrado sem chegar a patente e a tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 24/09/2020. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

HEXION INC.

US

MOMENTIVE SPECIALTY CHEMICALS INC.

US

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Inventores

A. M. (pessoa física)

US

J. G. (pessoa física)

US

L. X. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

12/437717 · 08/05/2009

Resumo técnico

MÃTODO São apresentados aqui métodos para a produção de partículas revestidas de escoamento livre e a baixa temperatura incluindo uma etapa de cura o revestimento com luz UV ou feixe de elétrons. Cada partícula tem um revestimento pré-curado colocado sobre um substrato. São também apresentados métodos para usar as partículas.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Manutenção do arquivamento

#11.20

24/09/2020

RPI 2594

Arquivamento - Art. 34 da LPI

#11.5

10/09/2019

RPI 2540

6.20

25/06/2019

RPI 2529

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

17/04/2018

RPI 2467

Alteração de nome deferida

#25.4

06/12/2016

RPI 2396

Retificação da notificação da fase nacional - PCT

#1.3.1

Foi retificada a publicação 1.3 da RPI 2358 de 15/03/2016 em relação ao item 1.1 da mesma.

08/11/2016

RPI 2392

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

15/03/2016

RPI 2358

Alteração de dados cadastrais

#1.1

27/11/2012

RPI 2186

Monitoramento de patentes

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