Manutenção do arquivamento
#11.20
24/09/2020
RPI 2594
Dados do pedido
Número
PI1011414Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2010029900 Pedido arquivado pelo INPI. O processo foi encerrado sem chegar a patente e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 24/09/2020. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
HEXION INC.
US
MOMENTIVE SPECIALTY CHEMICALS INC.
US
Inventores
A. M. (pessoa física)
US
J. G. (pessoa física)
US
L. X. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
12/437717 · 08/05/2009
Resumo técnico
MÃTODO São apresentados aqui métodos para a produção de partÃculas revestidas de escoamento livre e a baixa temperatura incluindo uma etapa de cura o revestimento com luz UV ou feixe de elétrons. Cada partÃcula tem um revestimento pré-curado colocado sobre um substrato. São também apresentados métodos para usar as partÃculas.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.20
24/09/2020
RPI 2594
#11.5
10/09/2019
RPI 2540
25/06/2019
RPI 2529
#6.6.1
17/04/2018
RPI 2467
#25.4
06/12/2016
RPI 2396
#1.3.1
Foi retificada a publicação 1.3 da RPI 2358 de 15/03/2016 em relação ao item 1.1 da mesma.
08/11/2016
RPI 2392
#1.3
15/03/2016
RPI 2358
#1.1
27/11/2012
RPI 2186
Do mesmo titular
Da mesma categoria
Monitoramento de patentes
Receba alertas de despachos, decisões e vencimentos do INPI para o seu portfólio.