Concessão da patente
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 09/09/2010, observadas as condições legais
11/08/2020
RPI 2588
Dados do pedido
Número
PI1005443Tipo
Depósito
Publicação
PCT
NO2010000332 Patente concedida em 11/08/2020 e em vigor até 09/09/2030. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:09/09/2030
Última movimentação publicada pelo INPI: 11/08/2020. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
E. A. (pessoa física)
NO
R. A. (pessoa física)
NO
Inventores
K. Z. (pessoa física)
CA
Classificação IPC
Prioridades unionistas
NO
20093054 · 23/09/2009
Resumo técnico
MÃTODO PARA A PRODUÃÃO DE SILÃCIO DE ELEVADA PUREZA.A presente invenção se refere a um método para a produção de silÃcio de elevada pureza que compreende prover silÃcio em fusão contendo de 1 a 10% em peso de cálcio, vazar o silÃcio em fusão, triturar o silÃcio e submeter o silÃcio triturado a urna primeira etapa de lixiviação em urna solução aquosa de HCl e/ou HCl +FeCl3 e a uma segunda etapa de lixiviação em urna solução aquosa de HF e HN03. As partÃculas de silÃcio lixiviadas são depois disso submetidas a um tratamento térmico a urna temperatura de entre 1250°C e 1420°C por um perÃodo de pelo menos 20 minutos e o silÃcio que passou pelo tratamento térmico é submetido a uma terceira etapa de lixiviação em urna solução aquosa de HF e HNO3.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 09/09/2010, observadas as condições legais
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