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Dado oficial do INPI

PLACA DE ELETRODO PARA A GERAÇÃO DE HIDROGÊNIO E OXIGÊNIO E RESPECTIVO MÉTODO DE FABRICAÇÃO

ArquivadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI1004327

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

01/02/2010

Publicação

14/02/2012

Andamento no INPI

  1. Depósito01/02/10
  2. Publicação14/02/12
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 01/02/2010, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 23/07/2013. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

HWANG, BOO-SUNG

KR

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Inventores

H. B. (pessoa física)

KR

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

KR

10-2009-0013342 · 18/02/2009

Resumo técnico

PLACA DE ELETRODO PARA A GERAÇÃO DE HIDROGÊNIO E OXIGÊNIO E RESPECTIVO MÉTODO DE FABRICAÇÃO. A presente invenção refere-se a uma placa de eletrodo para a geração de hidrogênio e oxigênio e respectivo método de fabricação. A placa de eletrodo para a geração de hidrogênio e oxigênio compreende TiO2, Co~2~O~3~, Cr~2~O~3~, NiO, tubo de nano carbono, Ni ou Cr e catalisador cerâmico, sendo que TiO~2~, Co~2~O~3~, Cr~2~O~3~, NiO, tubo de nano carbono, Ni ou Cr e catalisador cerâmico são prensados na forma de pó e são solidificados e plastificados em um forno de plastificação a vácuo, O método para a geração de hidrogênio e oxigênio compreende uma etapa (S1), em que os tipos de pó de TiO~2~, Co~2~O~3~, Cr~2~O~3~, NiO, tubo de nano carbono, Ni ou Cr e catalisador cerâmico são uniformemente misturados para formar um composto misturado com um grau elevado de distribuição; uma etapa (S2), em que o composto misturado é introduzido em um molde e prensado para formar um material sólido do tipo prensado; e uma etapa (S3), em que o material de prensagem é plastificado em um forno de plastificação a vácuo.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

23/07/2013

RPI 2220

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

30/04/2013

RPI 2208

Publicação do pedido de patente

#3.1

14/02/2012

RPI 2145

Pedido de patente depositado

#2.1

02/08/2011

RPI 2117

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